[发明专利]掩模版清洗液及掩模版的清洗方法在审
| 申请号： | 202110160957.2 | 申请日： | 2021-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN113009779A | 公开（公告）日： | 2021-06-22 |
| 发明（设计）人： | 阳超;司继伟;杜武兵;雷蒙;陈德浇 | 申请（专利权）人： | 深圳市路维光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/82 | 分类号： | G03F1/82 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 刘燚 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了掩模版清洗液及掩模版的清洗方法。该掩模版清洗液包括非离子表面活性剂、脂肪酸酯和水，非离子表面活性剂选自脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧丙烯醚中的至少一种。根据本申请实施例的掩模版清洗液，至少具有如下有益效果：本方案以脂肪醇聚氧乙烯醚和/或脂肪醇聚氧丙烯醚作为表面活性剂，有效降低掩模版表面的张力；同时辅以脂肪酸酯作为润湿分散剂降低表面的电子活跃度从而使整体呈现相对稳定的态势。特定结构非离子表面活性剂的乳化能力与脂肪酸酯的稳定能力相互配合，将掩模版表面的雾状油污乳化成小颗粒后，配合清洗工具的擦拭，能够实现高效的清洁，并且不会对掩模版本身的功能造成损坏，不会破坏镀层的疏水疏油特性。 | ||
| 搜索关键词： | 模版 清洗 方法 | ||
【主权项】：
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- 李冬妮;何洪波 - 上海华力集成电路制造有限公司
- 2022-07-28 - 2022-10-21 - G03F1/82
- 本发明提供一种清洁装置及清洁方法，所述清洁装置包括：第一承载台、检测单元和清洁单元；其中，所述第一承载台用于放置待清洁物；所述检测单元用于检测所述待清洁物的洁净度是否符合预设值，当所述待清洁物的洁净度不符合所述预设值，所述清洁单元对所述待清洁物进行清洁，且清洁结束后，所述检测单元对所述待清洁物再次进行洁净度的检测，如此重复进行检测和清洁，直至所述待清洁物的洁净度符合所述预设值；当所述待清洁物的洁净度符合所述预设值，所述待清洁物被送至存储区。本发明提供的清洁装置和清洁方法，避免了所述待清洁物直接进行存储时污染存储区内其余存放物，同时通过对所述待清洁物的清洁也避免其附着的固体颗粒损坏所述待清洁物。
- 掩膜组件的清洁支架-202221555594.9
- 梁东健 - 乐金显示光电科技（中国）有限公司
- 2022-06-21 - 2022-10-14 - G03F1/82
- 本实用新型涉及一种掩膜组件的清洁支架，包括支架主体和至少两个支撑装置，支架主体设有用于容纳升降台车的容纳空间，至少两个支撑装置分别设置于容纳空间相对的两侧，支撑装置包括固定底座和移动底座，固定底座安装在支架主体上，移动底座上设置有插接部，插接部用于与透明板侧面上的插接孔插接，移动底座与固定底座活动连接，并使移动底座能够靠近或远离透明板。通过在支架主体相对的两侧设置支撑装置，支撑装置通过移动底座的运动实现对透明板的固定。无需操作人员对透明板进行搬运，只需升降台车的升降便可实现对透明板和掩膜的分离。该清洁支架可避免人工搬运而造成透明板的二次污染和碰撞损坏，具有安全性高、省时省力的特点。
- 专利分类
G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
