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[发明专利]一种液晶面板刻蚀液的再生设备与方法-CN202210817448.7有效
发明人：于辉;熊志红;朱峰 -专利权人：湖北仕上电子科技有限公司
申请日： 2022-07-12 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： B01D21/01 文献下载
摘要：本发明涉及蚀刻技术领域，尤其涉及一种液晶面板刻蚀液的再生设备，包括设备主体，所述设备主体的下端设置有流道，所述流道的内侧设置有承接板，所述承接板下端面中间位置处与流道内底面相转动配合，所述承接板的前后端与流道的内部相插装配合，所述承接板的下端面靠近前后端处与流道的内底面间设置有抖动机构，所述承接板的上端面固定连接有若干根连接杆，还提出了一种液晶面板刻蚀液的再生方法，本方案可以促进沉降物的稳定沉降，并同时协助沉降物在较为稳定的状态下进行传送，以便于后续上下液层间的分隔，也利于了后续沉降物的再生利用，有效降低了生产成本，回收液的处理也更为便捷。
一种液晶面板刻蚀再生设备方法

[实用新型]一种用于多频红外火焰响应的探测器电路-CN202320243534.1有效
发明人： 熊志红;古盛少 -专利权人：深圳市诺安智能股份有限公司
申请日： 2023-02-17 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G08B17/12 文献下载
摘要：本实用新型公开了电路设计技术领域中的一种用于多频红外火焰响应的探测器电路，设于红外火焰探测器装置内，其包括多条信号采集支路、微处理器以及信号输出电路，每条信号采集支路均包括红外传感器电路、与红外传感器一一对应的信号放大电路，红外传感器电路包括红外传感器、磁珠、传感器滤波电路，信号放大电路包括放大器、放大器输入电阻、反馈电路、基准电阻、基准电容、放大器输出电阻。本实用新型通过简易的信号采集支路，仅通过一级的信号放大即可实现微处理器的数据处理，在保证探测结果准确性高的同时，避免对干扰信号进行同等放大，同时配合多频的红外传感器实现了火焰探测，并降低了干扰信号的影响。
一种用于红外火焰响应探测器电路

[发明专利]一种等离子刻蚀设备反应腔清洗装置-CN202310741471.7在审
发明人：于辉;熊志红;朱峰 -专利权人：湖北仕上电子科技有限公司
申请日： 2023-06-21 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种等离子刻蚀设备反应腔清洗装置，包括：封罩，所述封罩底部设有封口组件；喷口组件，所述喷口组件包括承载板和多组喷口；所述喷口组件设于封罩内部；进料组件，所述进料组件设于封罩顶部，所述进料组件与喷口组件连通；其中，所述封罩通过封口组件的真空作用对等离子刻蚀设备反应腔待处理区域进行封闭，通过进料组件向喷口组件输入高速喷射束及不同的清洗液，对等离子刻蚀设备反应腔待处理区域完成喷砂、碱洗和酸洗等工序。本发明通过封口组件将封罩与等离子刻蚀设备反应腔进行紧密贴合形成密闭的独立空间，对独立空间内的等离子刻蚀设备反应腔区域完成喷砂、碱洗和酸洗等工序，减少设备拆装需要。
一种等离子刻蚀设备反应清洗装置

[发明专利]基于人工智能的板材干燥设备控制系统的优化方法及系统-CN202310918544.5在审
发明人：朱峰;熊志红;郑洲;于辉;占波浪;夏多传;李亥元 -专利权人：湖北仕上电子科技有限公司
申请日： 2023-07-25 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： G06V10/44 文献下载
摘要：本发明实施例提供的基于人工智能的板材干燥设备控制系统的优化方法及系统，应用本发明实施例，联动控制优化建议标签中包括联动控制优化观点评分，可以确保联动控制优化建议标签的丰富程度，避免联动控制优化建议标签的信息承载量过低。此外，观点标签推理数据用于表征各个可视化控制要素向量针对联动控制优化建议标签的依赖性，确保了联动控制优化建议标签的合理性和推导性，有理有据地提高了联动控制优化建议标签的说服力，这样可以通过观点标签推理数据确定联动控制优化建议标签的确定思路，确保联动控制优化建议标签的可读性和可理解性，以便高质量地实现板材干燥设备控制系统的控制优化处理。
基于人工智能板材干燥设备控制系统优化方法系统

[发明专利]PVD镀腔内壁构件用涂层组合物、PVD镀腔内壁构件及其制备方法和清洗方法-CN202210814512.6有效
发明人：朱峰;熊志红 -专利权人：深圳仕上电子科技股份有限公司
申请日： 2022-07-12 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： C09D129/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种PVD镀腔内壁构件用涂层组合物、PVD镀腔内壁构件及其制备方法和清洗方法，PVD镀腔内壁构件用涂层组合物的原料包括以下质量份数的组分：3份～10份的聚乙烯醇、0.5份～10份的交联剂和0.03份～0.1份的多元醇增塑剂；所述交联剂包括水性封闭型异氰酸酯交联剂或硅氧烷交联剂。上述涂层组合物形成的涂层不仅能增强与杂质层的结合力，防止杂质层脱离，而且清洗时易溶于水，不仅便于清洗镀腔内壁构件，而且不损伤镀腔内壁构件。
pvd 内壁构件涂层组合及其制备方法清洗

[发明专利]一种PID传感器的自参考校准结构及自参考校准方法-CN202310972542.4在审
发明人：卿笃安;尹金德;熊志红;王艳波;陈镇辉 -专利权人：深圳市诺安智能股份有限公司
申请日： 2023-08-02 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： G01N27/66 文献下载
摘要：本发明公开了PID传感器技术领域中的一种PID传感器的自参考校准结构及自参考校准方法，该自参考校准结构包括与待检测环境连通的第一检测空间和第二检测空间；每个检测空间内设有对应的检测电极组，且第一检测空间还可接收紫外灯发出的光线，将待测气体光致电离产生探测信号，与待测气体浓度相关；第二检测空间无紫外光照射，用于产生自参考信号，与待测气体浓度无关。通过对探测信号和自参考信号的进行比较运算，消除干扰因素对待测气体浓度测量结果的影响，达到自参考校正目标。本发明可以有效降低待检测环境中湿度等因素对于目标气体浓度探测结果的干扰，有利于推广应用。
一种 pid 传感器参考校准结构方法

[发明专利]一种ECCP干法等离子刻蚀设备的下部电极维护设备与工艺方法-CN202210853800.2有效
发明人：于辉;熊志红;朱峰 -专利权人：湖北仕上电子科技有限公司
申请日： 2022-07-12 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种ECCP干法等离子刻蚀设备的下部电极维护设备与工艺方法，属于下部电极维护领域，包括一双层承载件，双层承载件的上端面固定设有一清洗筒。本发明的ECCP干法等离子刻蚀设备的下部电极维护设备与工艺方法，具有使用效率高和更换效率高的优点，解决了在对等离子刻蚀设备的下部电极进行维护的过程中，通常需要采用清洗设备配合超纯水对下部电极进行超净清洗，而随着使用，清洗设备中的水质过滤器在使用一段时间后滤芯效果会出现失能现象，在对其更换时只能停滞设备对其进行更换，导致使用效率收到一定的影响，同时在对滤芯更换时需要通过拧下大量用于固定的螺丝，不仅繁琐，还影响对滤芯更换的效率的问题。
一种 eccp 等离子刻蚀设备下部电极维护工艺方法

[发明专利]一种液晶玻璃半成品的清理装置-CN202111604971.3有效
发明人：朱峰;熊志红;胡超 -专利权人：湖北仕上电子科技有限公司
申请日： 2021-12-24 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： B08B11/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种液晶玻璃半成品的清理装置，其包括两个安装板以及底座，底座上滑移配合有除尘罩，除尘罩的底部能够抵接于底座，除尘罩顶部开设有两个密封孔，两个密封孔与两个安装板一一对应设置，安装板滑移连接于密封孔的内侧壁，密封孔内设置有用于对密封孔进行密封的密封组件，除尘罩的一侧开设有第一通孔，第一通孔内安装有第一风机，除尘罩远离第一风机的一侧开设有第二通孔，第二通孔内安装有第二风机，第二风机连通有第一排尘管，第一排尘管远离除尘罩的一侧连通有收集箱，收集箱内安装有用于对粉尘进行收集的收集机构，收集箱的一侧连通有第二排尘管，第二排尘管远离收集箱的一端连通有负压泵。本发明能够降低操作人员的健康风险。
一种液晶玻璃半成品清理装置

[发明专利]一种基于拉曼波的物质成分检测装置-CN202210582817.9有效
发明人：卿添;熊志红 -专利权人：深圳市诺安智能股份有限公司
申请日： 2022-05-26 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： G01N21/65 文献下载
摘要：本发明公开了环境安全检测的技术领域中的一种基于拉曼波的物质成分检测装置及实现方法，该检测装置包括物质反应端、信号处理端及位于两者之间的两条以上的拉曼波分波支路，第每个光滤波器均用于将接收的光信号中对应波长的光信号输出至对应的支路透镜，并将除去该波长的光信号输出，每个光电转换管的输出端均与运算放大器的一个对应的输入端连接；该检测方法包括调整光滤波器、检测、计算等步骤。本发明提高了检测结果的准确性和检测精度，并且检测速度快，整个装置的设备成本低，且降低了识别算法的复杂度，其在物质成分检测领域，尤其是在气体检测领域具有广泛应用价值。
一种基于拉曼波物质成分检测装置

[发明专利]金属负载钒酸铟及其制备方法、光催化固氮催化剂-CN202211383755.5有效
发明人：朱峰;熊志红;刘川;王梦晔 -专利权人：深圳仕上电子科技有限公司
申请日： 2022-11-07 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： B01J23/847 文献下载
摘要：本发明公开了一种金属负载钒酸铟及其制备方法、光催化固氮催化剂。金属负载钒酸铟的制备方法包括如下步骤：提供钒酸铟粉末；提供含铜污泥，并且将所述含铜污泥和酸溶液混合后充分反应，保留含铜上清液；将所述含铜上清液和乙二醇混合，接着加入所述钒酸铟粉末，接着将整个体系转移至水热釜中进行水热反应，充分反应后分离，得到所需要的金属负载钒酸铟。这种金属负载钒酸铟的制备方法，其可以利用含铜污泥中的金属成分，实现对钒酸铟(InVO4)的金属负载，制得金属负载钒酸铟。结合实施例部分的内容，最终制得的金属负载钒酸铟，可以实现铜负载，并且可以用作光催化固氮催化剂。
金属负载钒酸铟及其制备方法光催化固氮催化剂

[实用新型]一种用于气体探测器的集成式无线声光报警器-CN202223427031.4有效
发明人： 熊志红;胡晓华 -专利权人：深圳市诺安智能股份有限公司
申请日： 2022-12-19 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： G08B7/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了气体探测技术领域中的一种用于气体探测器的集成式无线声光报警器，包括与气体探测器紧固连接的防爆外壳、位于防爆外壳顶部的报警灯罩、位于防爆外壳底部并用于对防爆外壳底部的开口进行防爆密封的隔爆组件；防爆外壳的电路组件包括电路板及与电路板电连接的蜂鸣器、报警灯板，电路板固定于防爆外壳的底部，蜂鸣器位于防爆外壳的中部，报警灯板位于防爆外壳的顶部，电路板上设有与传输天线连接的无线通信模块，传输天线由报警灯板上穿出并延伸至报警灯罩内。本实用新型将气体探测器的声光报警功能、无线传输功能、防爆隔爆功能相结合，通过集成式设计降低了该声光报警器的生产、安装成本，降低了结构复杂度。
一种用于气体探测器集成无线声光报警器

[发明专利]一种平板显示器件的清洁系统-CN202111603350.3有效
发明人：朱峰;熊志红;胡超 -专利权人：湖北仕上电子科技有限公司
申请日： 2021-12-24 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： B01D29/01 文献下载
摘要：本申请涉及平板显示器技术领域，尤其是涉及一种平板显示器件的清洁系统，其包括支撑框架以及进液口，支撑框架上设有收集机构，支撑框架上开设有通孔，收集机构包括收集管以及收集箱，收集管的一端连通于通孔，收集管的另一端连通于收集箱的侧壁，收集管内安装有过滤板，过滤板上开设有若干过滤孔。本申请具有便于操作人员将支撑框架内残留的水进行排出，从而能够降低支撑框架生锈而发生损坏的可能性的效果。
一种平板显示器件清洁系统

[实用新型]一种低吸附光致电离传感器-CN202223608061.5有效
发明人： 熊志红;王艳波;古盛少 -专利权人：深圳市诺安智能股份有限公司
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： G01N27/66 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种低吸附光致电离传感器，包括气室、电极组件、离子膜、紫外光源、气泵和电路板；气室包括进气口、出气口和电离室，电离室分别与进气口和出气口连通；离子膜上设有开口孔；气室的外壳固定在电路板上，电极组件位于电离室内固定在电路板上，紫外光源位于电离室上方与气室的外壳连接，离子膜设置于紫外光源和电极组件之间，气泵通过进气口与电离室连通；其中电极组件包括第一电极和第二电极，两电极处于同一平面且之间具有间隙，开口孔正对两电极之间的间隙。本申请通过改进电极组件的结构，降低了挥发性有机化合物气体的吸附性，减小了湿度和温度变化时冷凝水汽对电极的影响，提高传感器长期工作的精准度和稳定性。
一种吸附致电传感器

[发明专利]一种自动喷砂综合清理设备-CN202111604924.9有效
发明人：朱峰;熊志红;胡超 -专利权人：湖北仕上电子科技有限公司
申请日： 2021-12-24 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： B24C3/04 文献下载
摘要：本申请涉及一种自动喷砂综合清理设备，涉及喷砂设备的领域，其包括机体，所述机体设置有操作口，所述机体于所述操作口位置转动连接有防护门，所述机体与所述防护门设置有锁定组件；所述机体升降设置有照明架，所述机体设置有驱动所述照明架升降的动力件，所述照明架安装有第一照明灯，所述照明架两端均转动连接有支架，所述支架安装有第二照明灯，所述支架设置有驱动所述支架摆动的传动组件。本申请具有确保对物件充分照明的效果，提升物件喷砂工作的精准性，确保喷砂成品质量。
一种自动喷砂综合清理设备

[发明专利]半导体表面清洁处理装置-CN202111603391.2有效
发明人：朱峰;熊志红;胡超 -专利权人：广州仕上科技有限公司
申请日： 2021-12-24 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本申请公开了半导体表面清洁处理装置，属于半导体清理的领域，其包括底座、设置于所述底座上的清理筒，所述清理筒外侧壁的上端设置有用于容纳清洁液的进液箱，所述进液箱与所述清理筒相连通，所述底座上设置有循环箱，所述循环箱远离所述进液箱的端部与所述清理筒之间连通有出水管，所述循环箱内安装有过滤板，所述过滤板靠近所述进液箱的侧面设置有水泵，所述水泵上连通有输水管，所述输水管穿出所述循环箱并与所述进液箱相连通，所述循环箱靠近所述出水管的内底面连通有排放管，所述排放管上安装有电磁阀；所述清理筒内设置有用于固定半导体器件的固定组件。本申请具有提高半导体器件清洗效果的效果。
半导体表面清洁处理装置

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