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[实用新型]一种DUV用掩模版无接触卸载保护膜的装置-CN202223403545.6有效
发明人：郑祺弘;孙世强 -专利权人： 深圳市龙图光罩股份有限公司
申请日： 2022-12-19 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种DUV用掩模版无接触卸载保护膜的装置，包括基座以及位于基座同一侧的支撑块、第一驱动组件、滑块、螺杆、第二驱动组件以及加热件。本申请提供的上述方案，首先将掩模版放置到基座上的支撑块上，然后通过第一驱动组件带动滑块运动到预设位置后停止，转动螺杆，以使得螺杆插入到保护膜膜框上的插孔内；随后通过加热件加热保护膜膜框，当保护膜膜框与掩模版之间的胶软化后，停止加热，最后通过第二驱动组件带动第一驱动组件沿第二方向运动，从而就可以通过螺杆带动保护膜膜框沿第二方向运动，以使得保护膜膜框与掩模版分离，进而使得保护膜膜框中的保护膜与掩模版分离。整体卸载自动化程度高，有效避免了手部与掩模版的直接接触。
一种 duv 模版接触卸载保护膜装置

[发明专利]掩模护膜、掩模护膜移除方法以及掩模护膜移除装置-CN202210446397.1有效
发明人：侯广杰;黄执祥;谢超 -专利权人： 深圳市龙图光罩股份有限公司
申请日： 2022-04-26 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明属于掩模保护领域，尤其涉及一种掩模护膜、掩模护膜移除方法以及掩模护膜移除装置，其中，掩模护膜包括支撑框以及保护膜，所述支撑框呈环形并具有在中心轴线延伸方向相对设置的抵靠面以及装膜面，所述抵靠面以及装膜面均呈环形，所述抵靠面分为均呈环形的粘接平面以及导流斜面，所述粘接平面开设有多个吸胶孔，所述支撑框开设有与各所述吸胶孔连通的排气通道，所述排气通道于外环面开设有一个排气孔。将掩模护膜从掩模版移除之后，掩模版上不会残留有粘胶。
掩模护膜掩模护膜移方法以及装置

[发明专利]掩模版预校准方法、系统、电子设备以及可读存储介质-CN202310387417.7有效
发明人：白永智;雷健;谢超;何祥;何俊龙 -专利权人： 深圳市龙图光罩股份有限公司
申请日： 2023-04-12 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本申请公开了一种掩模版预校准方法、系统、电子设备以及可读存储介质，应用于掩模版预校准系统，掩模版预校准系统包括：掩模版载具预校准装置、掩模台上版装置、曝光支撑装置、掩模版以及机械手臂装置，掩模版预校准方法包括：通过机械手臂装置将曝光支撑装置移动至掩模版载具预校准装置，在掩模版载具预校准装置上校准并固定曝光支撑装置；在固定已校准的曝光支撑装置后，通过机械手臂装置将掩模版置于曝光支撑装置上，校准掩模版，并将掩模版固定在已校准的曝光支撑装置上；通过机械手臂装置，将曝光支撑装置和掩模版共同移动至掩模台上版装置。本申请旨在提高掩模版上版校准的精度以及效率，以提高光刻机的连续生产效率。
模版校准方法系统电子设备以及可读存储介质

[实用新型]一种功率半导体掩模版清洗的批量传输装置-CN202223403501.3有效
发明人：黄执祥;王栋 -专利权人： 深圳市龙图光罩股份有限公司
申请日： 2022-12-19 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：一种功率半导体掩模版清洗的批量传输装置，包括结构板有两个且两个结构板间隔设置，每一结构板上设置挂钩；底卡尺有至少一个，底卡尺设置在两个所述结构板之间靠近下部的位置，底卡尺具的顶面具有用于由底部定位掩模版的若干个第一卡槽；侧卡尺有两个，两个侧卡尺设置在结构板之间，且两个侧卡尺分别设置在底卡尺左右两侧且位于底卡尺的上方，侧卡尺的内侧具有用于由掩模版侧面边缘定位掩模版的若干第二卡槽，第一卡槽和第二卡槽数量相同且位置逐一匹配。本掩模版清洗的批量传输装置通过侧卡尺和底卡尺的配合，可通过第一卡槽和第二卡槽一次性稳定加装多片掩模版，掩模版侧面和底面均被限位，在掩模版清洗的过程中掩模版的位置稳定。
一种功率半导体模版清洗批量传输装置

[实用新型]一种掩模版后处理设备的离子残留控制装置-CN202223486175.7有效
发明人：雷健;白永智 -专利权人： 深圳市龙图光罩股份有限公司
申请日： 2022-12-19 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： G03F7/40 文献下载
摘要：本实用新型涉及掩模版后处理设备离子残留控制技术领域，尤其涉及一种掩模版后处理设备的离子残留控制装置，包括：转接件，可拆卸连接于掩模版后处理设备的旋转结构，并能够在掩模版后处理设备的旋转结构的驱动下转动；喷淋管，上下延伸设置，所述喷淋管与掩模版后处理设备的蚀刻腔的腔壁、旋转结构、升降结构、显影喷头以及蚀刻喷头间隔设置，所述喷淋管的周侧开设有喷淋孔；连接件，用于连接所述转接件和所述喷淋管。基于本实用新型，能够提高掩模版后处理设备的清洗效率，且能够对蚀刻腔的腔壁实现无死角的清洗。
一种模版处理设备离子残留控制装置

[发明专利]掩模版刻蚀设备、方法、系统及计算机可读存储介质-CN202310379779.1有效
发明人：王栋;黄执祥;白永智;孙世强;周峰 -专利权人： 深圳市龙图光罩股份有限公司
申请日： 2023-04-11 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G03F1/80 文献下载
摘要：本申请公开了一种掩模版刻蚀设备、方法、系统及计算机可读存储介质，所述掩模版刻蚀设备包括真空装置，所述真空装置包括至少一通道孔；抽真空装置，所述抽真空装置设置于所述通道孔，且所述抽真空装置的两侧分别位于所述真空装置的内侧和外侧；显影蚀刻装置，所述显影蚀刻装置设置于所述真空装置的另一通道孔，其中，所述抽真空装置用于抽取所述真空装置内的空气，所述显影蚀刻装置用于对放置在所述真空装置内的待刻蚀目标物进行显影与蚀刻。本申请降低了蚀刻后掩模版铬层的侧壁角度。
模版刻蚀设备方法系统计算机可读存储介质

[实用新型]一种掩模版上金属引导器的去除装置-CN202223403563.4有效
发明人：郭成恩;谢超 -专利权人： 深圳市龙图光罩股份有限公司
申请日： 2022-12-19 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： G03F1/68 文献下载
摘要：一种掩模版上金属引导器的去除装置，包括设备主机和固定组件，设备主机包括加载运动装置和加热柱组件，固定组件包括底座和盖板，固定组件通过底座连接加载运动装置，盖板可拆卸的安装在底座上，底座和盖板配合用于夹持掩模版，底座和盖板对应金属引导器位置均具有避位区，加载运动装置能够驱动固定组件上下运动，加热柱组件设置在对应避位区处，加热柱组件顶部设有位于金属引导器下方的加热强磁体，加热强磁体用于磁吸金属引导器并加热金属引导器。基于本实用新型，通过加热的方式，胶水熔化后，使得胶水易于去除，加热过程可控，可提高金属引导器的拆卸效率，且拆卸效果稳定，无须对金属引导器进行撬除，不会损伤掩模版。
一种模版金属引导去除装置

[发明专利]掩模版的对位校准方法、装置、设备及存储介质-CN202310379785.7有效
发明人：黄执祥;谢超;孙世强;雷健;崔嘉豪 -专利权人： 深圳市龙图光罩股份有限公司
申请日： 2023-04-11 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩模版的对位校准方法、装置、设备及存储介质，所述掩模版的对位校准方法应用于控制系统，所述控制系统与联动对位校准装置连接，所述联动对位校准装置包括：载具和掩模台，所述掩模台包括：联动支撑调整装置；当掩模版上版至所述载具时，控制所述载具针对所述掩模版的位置进行调整，并记录调整数据；将所述调整数据的电信号发送给所述联动支撑调整装置，以控制所述联动支撑调整装置根据所述电信号进行调整；将所述掩模版移送至所述掩模台以将所述掩模版放置在调整后的联动支撑调整装置上。从而，本发明能够减少掩模版在曝光前进行定位的时长，进而提高光刻机的生产效率。
模版对位校准方法装置设备存储介质

[发明专利]掩模版缺陷处理装置、方法以及终端设备-CN202310387421.3有效
发明人：何祥;雷健;崔嘉豪;柯汉奇;张成忠 -专利权人： 深圳市龙图光罩股份有限公司
申请日： 2023-04-12 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：本申请涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种掩模版缺陷处理装置、方法以及终端设备，该装置包括：修补单元、图像识别单元、滴液控制单元和风刀控制单元，图像识别单元与修补单元建立通信连接，用于采集掩模版上的缺陷尺寸；图像识别单元与滴液控制单元建立通信连接，用于将缺陷尺寸上传至滴液控制单元，以供滴液控制单元根据缺陷尺寸控制蚀刻液滴头滴漏在缺陷尺寸的中心位置上的蚀刻液体积；图像识别单元与风刀控制单元建立通信连接，用于将缺陷尺寸上传至风刀控制单元，以供风刀控制单元根据缺陷尺寸控制风刀系统的风圈将蚀刻液体积与所述缺陷尺寸重叠以对掩模版上的缺陷进行处理。本申请提高了掩模版表面黑缺陷的修补能力。
模版缺陷处理装置方法以及终端设备

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