[发明专利]校正半导体制造机台中晶圆位置的工具和方法有效

专利信息
申请号: 202110060868.0 申请日: 2021-01-18
公开(公告)号: CN112864071B 公开(公告)日: 2022-04-01
发明(设计)人: 王志久 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: H01L21/68 分类号: H01L21/68
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 王辉;阚梓瑄
地址: 230601 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 本公开涉及一种校正半导体制造机台中晶圆位置的工具和方法,半导体制造机台具有腔室,腔室的一侧设置有晶圆承载装置,晶圆能放置在晶圆承载装置靠近腔室的表面上,且晶圆与晶圆承载装置边缘之间具有间隙,上述工具包括:盖板,设置在腔室远离晶圆承载装置的一侧,并覆盖腔室,盖板具有安装孔;透明板,安装于安装孔内,且晶圆承载装置在透明板上的投影位于透明板内;第一标尺和第二标尺,设置在透明板上,第一标尺沿第一方向和背离第一方向的方向延伸至透明板边缘,第二标尺沿第二方向和背离第二方向的方向延伸至透明板边缘,且第一标尺和第二标尺上设置有多个均匀分布的分度标识;其中,第二方向与第一方向相交。该工具能够准确的调整晶圆位置。
搜索关键词: 校正 半导体 制造 机台 中晶圆 位置 工具 方法
【主权项】:
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