[实用新型]一种半导体晶圆湿法清洗的治具有效

专利信息
申请号: 202021458668.8 申请日: 2020-07-22
公开(公告)号: CN212461631U 公开(公告)日: 2021-02-02
发明(设计)人: 刘雨墨 申请(专利权)人: 苏州睿智源自动化科技有限公司
主分类号: H01L21/677 分类号: H01L21/677;H01L21/687;B08B3/04
代理公司: 苏州周智专利代理事务所(特殊普通合伙) 32312 代理人: 周雅卿
地址: 215300 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种半导体晶圆湿法清洗的治具,包括安装板,所述安装板上固定连接有电机,所述电机的输出轴末端固定连接有螺纹杆,所述螺纹杆的外侧壁螺纹连接有滑块,所述滑块的外侧壁滑动连接有矩形框,所述矩形框的外侧壁套设有套筒,所述套筒的外侧壁贯穿设置有紧固螺栓,所述紧固螺栓与套筒螺纹连接,所述滑块的外侧壁固定连接有连杆,所述连杆远离滑块的一端固定连接有置物架,所述置物架两端内壁之间共同滑动连接有固定杆,所述固定杆的两端均开设有凹槽。本实用新型通过螺纹杆带动滑块平移和转动,代替了人工,利用齿轮和齿条对固定杆进行固定,从而对晶圆进行固定,提高了在晶圆湿法清洗过程中的稳定性。
搜索关键词: 一种 半导体 湿法 清洗
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