[发明专利]半导体装置的结构在审

专利信息
申请号: 202011245650.4 申请日: 2020-11-10
公开(公告)号: CN113130497A 公开(公告)日: 2021-07-16
发明(设计)人: 张盟昇;黄家恩;郑莞学;杨耀仁;王奕 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/112 分类号: H01L27/112
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种半导体装置的结构包括第一数据线及第一反熔丝单元,第一反熔丝单元包括第一/第二程序化装置及第一/第二读取装置。第一程序化装置包括第一栅极及在第一栅极的相对侧面上设置的第一/第二源极/漏极区域。第二程序化装置包括与第一栅极分离且耦接到第一字线的第二栅极以及在第二栅极的相对侧面上设置的第三/第四源极/漏极区域。第一读取装置包括第三栅极及在第三栅极的相对侧面上设置的第五/第六源极/漏极区域。第二读取装置包括第四栅极及在第四栅极的相对侧面上设置的第七/第八源极/漏极区域。第三/第四栅极是耦接到第二字线的第一连续栅极的部分。第五/第七源极/漏极区域分别耦接到第二/第四源极/漏极区域。第六/第八源极/漏极区域耦接到第一数据线。
搜索关键词: 半导体 装置 结构
【主权项】:
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