[发明专利]一种三维半导体雪崩光电探测芯片及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202011190233.4 申请日: 2020-10-30
公开(公告)号: CN112289883B 公开(公告)日: 2023-03-28
发明(设计)人: 汪学方;张雨雨;许剑锋;肖峻峰 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: H01L31/107 分类号: H01L31/107;H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 尚威;李智
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明属于光电探测领域,公开了一种三维半导体雪崩光电探测芯片及其制备方法。该方法包括:(a)在SOI基片上预规划掺杂区域,所述SOI基片包括由下至上依次堆叠的半导体材料衬底、绝缘层、绝缘层上半导体;(b)通过扩散或离子注入形成P型基体;(c)在P型衬底上通过扩散或离子注入在图中位置分别形成重掺杂P型区域及重掺杂N型区域;(d)在预规划的电极位置沉积金属层,刻蚀金属层形成金属电极(e)刻蚀去掉不需要的半导体材料形成隔离。本发明的半导体雪崩光电探测芯片具有三维结构,从而提高半导体雪崩光电探测芯片的吸收面积和探测效率。
搜索关键词: 一种 三维 半导体 雪崩 光电 探测 芯片 及其 制备 方法
【主权项】:
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