[发明专利]一种半导体晶片封装及其形成方法有效

专利信息
申请号: 202010636833.2 申请日: 2020-07-03
公开(公告)号: CN111883433B 公开(公告)日: 2022-03-22
发明(设计)人: 徐彩芬;汤亚勇;苏华 申请(专利权)人: 徐彩芬
主分类号: H01L21/50 分类号: H01L21/50;H01L21/56;H01L23/31;H01L23/552
代理公司: 苏州市港澄专利代理事务所(普通合伙) 32304 代理人: 马丽丽
地址: 215600 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种半导体晶片封装及其形成方法,该方法包括以下步骤:在所述封装基板上制备多个环形凸起,在半导体晶片的四周边缘形成一环形凹槽,将所述半导体晶片安装在所述封装基板上,接着蚀刻所述半导体晶片的侧面以形成倾斜侧面,接着在所述半导体晶片上依次第一电介质层、第一电磁屏蔽层、第二电介质层、第二电磁屏蔽层、第三电介质层以及第三电磁屏蔽层;接着在所述封装基板上形成第一树脂封装层以及塑封层;接着在所述塑封层中形成开孔,在形成所述开孔的过程中去除了每个所述环形凸起的一部分,且所述开孔的侧壁不暴露所述半导体晶片,接着在所述开孔中沉积导电材料以形成导电凸块。
搜索关键词: 一种 半导体 晶片 封装 及其 形成 方法
【主权项】:
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