[发明专利]一种化学气相沉积装置在审
申请号: | 202010454127.6 | 申请日: | 2020-05-26 |
公开(公告)号: | CN113718235A | 公开(公告)日: | 2021-11-30 |
发明(设计)人: | 顾伟;刘冰之;郑凯强;高翾 | 申请(专利权)人: | 北京石墨烯研究院 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/46;C23C16/458;C23C16/448;C23C16/26 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 崔香丹;于宝庆 |
地址: | 100095 北京市海淀区苏家*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种化学气相沉积装置,包括反应单元和承载面板;所述反应单元用于通过化学气相沉积反应在基底上生成薄膜;所述承载面板用于承载所述基底,并能够带着所述基底进出所述反应单元;其中,所述反应单元包括一个或多个反应室,在所述反应室内设置有保温腔,所述保温腔为两端开口的筒状体。本发明的一实施方式化学气相沉积装置,可实现石墨烯玻璃的连续生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 化学 沉积 装置 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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