[发明专利]一种化学气相沉积装置

权利要求书

1.一种化学气相沉积装置，包括：

反应单元，用于通过化学气相沉积反应在基底上生成薄膜；以及

承载面板，用于承载所述基底，并能够带着所述基底进出所述反应单元；

其中，所述反应单元包括一个或多个反应室，在所述反应室内设置有保温腔，所述保温腔为两端开口的筒状体。

2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述保温腔包括第一开口和第二开口，所述承载面板通过所述第一开口和所述第二开口进出所述保温腔。

3.根据权利要求2所述的装置，其中，在所述反应室内设置有两块隔热屏，所述两块隔热屏分别设置于所述反应室相对的两侧壁上，所述保温腔夹设于所述两片隔热屏之间。

4.根据权利要求2所述的装置，包括传送组件，用于带动所述承载面板进出所述反应单元。

5.根据权利要求4所述的装置，其中，所述承载面板包括承载部、第一支撑部和第二支撑部，所述承载部用于放置所述基底，所述第一支撑部、所述第二支撑部作用于所述传送组件，所述承载部位于所述第一支撑部和所述第二支撑部之间。

6.根据权利要求5所述的装置，其中，所述承载部呈板状；所述第一支撑部和所述第二支撑部的结构相同，均为开口向下的U形槽，所述U形槽的长度方向与所述第一开口或所述第二开口的轴线方向相同。

7.根据权利要求5所述的装置，其中，在所述承载部上设置有定位框，所述定位框包括多个由条形体交错形成的定位格，所述基底位于所述承载部上并被套设于所述定位格内。

8.根据权利要求5所述的装置，其中，所述传送组件包括两条导轨，所述承载面板的所述第一支撑部和所述第二支撑部分别设置于所述两条导轨上。

9.根据权利要求8所述的装置，其中，所述两条导轨设置于所述反应单元，并贯穿所述保温腔，在所述保温腔内设置有加热部件和匀热板，所述加热部件位于所述两条导轨之间，所述匀热板设置于所述加热部件，当所述承载面板移动至所述加热部件上方时，所述匀热板位于所述承载部和所述加热部件之间。

10.根据权利要求1所述的装置，包括备样单元和取样单元，所述反应单元位于所述备样单元和所述取样单元之间，所述承载面板能够在所述备样单元、所述反应单元、所述取样单元之间移动。