[发明专利]采用铜互连的集成电路封装结构及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202010420839.6 申请日: 2020-05-18
公开(公告)号: CN111564416A 公开(公告)日: 2020-08-21
发明(设计)人: 李宗亚;吴新;王成迁 申请(专利权)人: 无锡中微高科电子有限公司;中国电子科技集团公司第五十八研究所
主分类号: H01L23/31 分类号: H01L23/31;H01L23/535;H01L23/48;H01L23/50;H01L21/56
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 代理人: 殷红梅
地址: 214028 江苏省无锡市新*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 本申请涉及集成电路封装技术领域,具体涉及采用铜互连的集成电路封装结构及其制作方法。该封装结构包括:布线基体,所述布线基体中设有若干个间隔分布的铜互连结构;每个所述铜互连结构包括引出端和连接端,所述引出端外露于所述布线基体的下表面;集成电路芯片,所述集成电路芯片设于所述布线基体中,所述布线基体的连接端连接所述集成电路芯片的IO端,使得所述IO端和所述引出端之间通过所述铜互连结构形成电通路。采用铜互连的集成电路封装结构及其制作方法,能够解决现有技术中封装产业链分散以及可靠性较低等问题,并缩短整个封装制程的加工周期。
搜索关键词: 采用 互连 集成电路 封装 结构 及其 制作方法
【主权项】:
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