[发明专利]铁电薄膜的制备方法、铁电存储器及其制备方法在审
申请号: | 202010401254.X | 申请日: | 2020-05-13 |
公开(公告)号: | CN111549329A | 公开(公告)日: | 2020-08-18 |
发明(设计)人: | 廖敏;郇延伟;戴思维;刘兆通;曾斌建;周益春 | 申请(专利权)人: | 湘潭大学 |
主分类号: | C23C16/18 | 分类号: | C23C16/18;C23C16/455;C23C16/56;H01L27/1159 |
代理公司: | 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 | 代理人: | 郑久兴 |
地址: | 411100 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本申请实施例提供一种铁电薄膜的制备方法、铁电存储器及其制备方法。其中铁电薄膜的制备方法包括:以主元素源作为反应前驱体进行原子层沉积,将主元素沉积到衬底表面,通过控制沉积时间,以吸附衬底表面大部分自由键合点;继而使用惰性气体作为净化气体进行清除吹扫腔室;然后以掺杂元素源作为反应前驱体进行原子层沉积,使掺杂元素吸附衬底表面剩余的自由键合点;使用惰性气体作为净化气体进行清除吹扫;此时两种前驱体同时存在于衬底表面,然后使用氧化性气体一同进行氧化处理;继而使用惰性气体作为净化气体进行清除吹扫;重复以上步骤,得到目标厚度的铁电薄膜。本申请实施例的方法能够实现较好的低浓度均匀性掺杂。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 制备 方法 存储器 及其 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的