[发明专利]半导体装置在审
申请号: | 202010098581.2 | 申请日: | 2020-02-18 |
公开(公告)号: | CN111584451A | 公开(公告)日: | 2020-08-25 |
发明(设计)人: | 铃木聪之;木村吉孝 | 申请(专利权)人: | 艾普凌科有限公司 |
主分类号: | H01L23/495 | 分类号: | H01L23/495;H01L23/31 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 马建军;邓毅 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种半导体装置。半导体装置具备:引线框(104),其具有芯片焊盘(104D);半导体芯片(101),其正面形成有集成电路,背面隔着中介膜(11)和粘接层(103)芯片接合在芯片焊盘(104D)上;以及密封树脂(106),其密封引线框(104)、粘接层(103)、中介膜(11)以及半导体芯片(101),中介膜(11)具有在半导体芯片(101)的背面的一部分与粘接层(103)之间形成空间的开口(12)。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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