[发明专利]半导体装置有效
| 申请号: | 202010057721.1 | 申请日: | 2020-01-19 |
| 公开(公告)号: | CN112420832B | 公开(公告)日: | 2023-08-29 |
| 发明(设计)人: | 西胁达也 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社 |
| 主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/423;H01L29/06 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 牛玉婷 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 实施方式提供能够减小导通电阻的半导体装置。半导体装置具有第1电极、第1导电型的第1半导体区域、第2导电型的第2半导体区域、第1导电型的第3半导体区域、第1绝缘部、第2电极、栅极电极、第2绝缘部以及第3电极。第2电极设置在第1绝缘部中,具有在第2方向上与第1半导体区域对置的部分。栅极电极设置在第1绝缘部中,在第2方向上隔着栅极绝缘层而与第2半导体区域对置,与第2电极电分离。第2绝缘部与第1绝缘部相连。第2绝缘部的第1方向上的长度比第1半导体区域与第2电极之间的第1绝缘部的厚度长。第2绝缘部的第2方向上的长度比第1绝缘部的厚度的2倍短。第3电极与第2半导体区域、第3半导体区域以及第2电极电连接。 | ||
| 搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
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