[发明专利]半导体装置有效
| 申请号: | 202010057721.1 | 申请日: | 2020-01-19 |
| 公开(公告)号: | CN112420832B | 公开(公告)日: | 2023-08-29 |
| 发明(设计)人: | 西胁达也 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社 |
| 主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/423;H01L29/06 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 牛玉婷 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
1.一种半导体装置,其中,具备:
第1电极;
第1导电型的第1半导体区域,设置在上述第1电极之上,与上述第1电极电连接;
第2导电型的第2半导体区域,设置在上述第1半导体区域之上;
第1导电型的第3半导体区域,在上述第2半导体区域之上选择性地设置;
第1绝缘部,在与从上述第1电极朝向上述第1半导体区域的第1方向垂直的第2方向上,与上述第1半导体区域的一部分、上述第2半导体区域以及上述第3半导体区域并排;
第2电极,设置在上述第1绝缘部中,具有在上述第2方向上与上述第1半导体区域对置的部分;
栅极电极,设置在上述第1绝缘部中,在上述第2方向上隔着栅极绝缘层而与上述第2半导体区域对置,并与上述第2电极电分离;
第2绝缘部,与上述第1绝缘部相连,上述第2绝缘部的上述第1方向上的长度比上述第1半导体区域与上述第2电极之间的上述第1绝缘部的厚度长,上述第2方向上的长度比上述第1绝缘部的厚度的2倍短;以及
第3电极,设置在上述第2半导体区域以及上述第3半导体区域之上,与上述第2半导体区域、上述第3半导体区域以及上述第2电极电连接。
2.如权利要求1所述的半导体装置,其中,
还具备设置在上述第1电极与上述第1半导体区域之间的第1导电型的第4半导体区域;
上述第4半导体区域中的第1导电型的杂质浓度比上述第1半导体区域中的第1导电型的杂质浓度高;
上述第2绝缘部的下端在上述第1方向上与上述第4半导体区域分离。
3.如权利要求1或2所述的半导体装置,其中,
上述第2绝缘部的上述第2方向上的长度越朝向下方越短。
4.如权利要求1或2所述的半导体装置,其中,
上述第1绝缘部、上述第2绝缘部、上述栅极电极以及上述第2电极各自在上述第2方向上被设置多个;
上述第1半导体区域具有:
第1部分,位于在上述第2方向上相邻的上述第1绝缘部彼此之间;以及
第2部分,位于在上述第2方向上相邻的上述第2绝缘部彼此之间;
上述第2部分的上述第2方向上的长度比上述第1部分的上述第2方向上的长度长。
5.如权利要求4所述的半导体装置,其中,
上述第1绝缘部、上述第2绝缘部、上述栅极电极以及上述第2电极各自在与上述第1方向垂直且与上述第2方向交叉的第3方向上被设置多个;
上述第2绝缘部的上述第3方向上的长度比上述第1绝缘部的厚度的2倍短。
6.如权利要求5所述的半导体装置,其中,
上述第1半导体区域具有:
第3部分,位于在上述第3方向上相邻的上述第1绝缘部彼此之间;以及
第4部分,位于在上述第3方向上相邻的上述第2绝缘部彼此之间;
上述第4部分的上述第3方向上的长度比上述第3部分的上述第3方向上的长度长。
7.如权利要求1或2所述的半导体装置,其中,
在上述第2绝缘部设有空隙。
8.如权利要求1或2所述的半导体装置,其中,
上述第1绝缘部以及上述第2绝缘部包含氧化硅。
9.如权利要求1或2所述的半导体装置,其中,
上述第2绝缘部的上述第1方向上的上述长度相对于上述第2电极的上述第1方向上的长度的比为0.5以上2.0以下。
10.如权利要求1或2所述的半导体装置,其中,
上述第2绝缘部的上述第2方向上的上述长度相对于上述第2电极的上述第2方向上的长度的比为0.5以上2.0以下。
11.如权利要求1或2所述的半导体装置,其中,
上述第1电极与上述第2绝缘部之间的上述第1方向上的距离相对于上述第1电极与上述第2半导体区域之间的上述第1方向上的距离的比为0.1以上0.5以下。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社,未经株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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