[发明专利]半导体装置有效

专利信息
申请号: 202010057721.1 申请日: 2020-01-19
公开(公告)号: CN112420832B 公开(公告)日: 2023-08-29
发明(设计)人: 西胁达也 申请(专利权)人: 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/423;H01L29/06
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 牛玉婷
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 装置
【权利要求书】:

1.一种半导体装置,其中,具备:

第1电极;

第1导电型的第1半导体区域,设置在上述第1电极之上,与上述第1电极电连接;

第2导电型的第2半导体区域,设置在上述第1半导体区域之上;

第1导电型的第3半导体区域,在上述第2半导体区域之上选择性地设置;

第1绝缘部,在与从上述第1电极朝向上述第1半导体区域的第1方向垂直的第2方向上,与上述第1半导体区域的一部分、上述第2半导体区域以及上述第3半导体区域并排;

第2电极,设置在上述第1绝缘部中,具有在上述第2方向上与上述第1半导体区域对置的部分;

栅极电极,设置在上述第1绝缘部中,在上述第2方向上隔着栅极绝缘层而与上述第2半导体区域对置,并与上述第2电极电分离;

第2绝缘部,与上述第1绝缘部相连,上述第2绝缘部的上述第1方向上的长度比上述第1半导体区域与上述第2电极之间的上述第1绝缘部的厚度长,上述第2方向上的长度比上述第1绝缘部的厚度的2倍短;以及

第3电极,设置在上述第2半导体区域以及上述第3半导体区域之上,与上述第2半导体区域、上述第3半导体区域以及上述第2电极电连接。

2.如权利要求1所述的半导体装置,其中,

还具备设置在上述第1电极与上述第1半导体区域之间的第1导电型的第4半导体区域;

上述第4半导体区域中的第1导电型的杂质浓度比上述第1半导体区域中的第1导电型的杂质浓度高;

上述第2绝缘部的下端在上述第1方向上与上述第4半导体区域分离。

3.如权利要求1或2所述的半导体装置,其中,

上述第2绝缘部的上述第2方向上的长度越朝向下方越短。

4.如权利要求1或2所述的半导体装置,其中,

上述第1绝缘部、上述第2绝缘部、上述栅极电极以及上述第2电极各自在上述第2方向上被设置多个;

上述第1半导体区域具有:

第1部分,位于在上述第2方向上相邻的上述第1绝缘部彼此之间;以及

第2部分,位于在上述第2方向上相邻的上述第2绝缘部彼此之间;

上述第2部分的上述第2方向上的长度比上述第1部分的上述第2方向上的长度长。

5.如权利要求4所述的半导体装置,其中,

上述第1绝缘部、上述第2绝缘部、上述栅极电极以及上述第2电极各自在与上述第1方向垂直且与上述第2方向交叉的第3方向上被设置多个;

上述第2绝缘部的上述第3方向上的长度比上述第1绝缘部的厚度的2倍短。

6.如权利要求5所述的半导体装置,其中,

上述第1半导体区域具有:

第3部分,位于在上述第3方向上相邻的上述第1绝缘部彼此之间;以及

第4部分,位于在上述第3方向上相邻的上述第2绝缘部彼此之间;

上述第4部分的上述第3方向上的长度比上述第3部分的上述第3方向上的长度长。

7.如权利要求1或2所述的半导体装置,其中,

在上述第2绝缘部设有空隙。

8.如权利要求1或2所述的半导体装置,其中,

上述第1绝缘部以及上述第2绝缘部包含氧化硅。

9.如权利要求1或2所述的半导体装置,其中,

上述第2绝缘部的上述第1方向上的上述长度相对于上述第2电极的上述第1方向上的长度的比为0.5以上2.0以下。

10.如权利要求1或2所述的半导体装置,其中,

上述第2绝缘部的上述第2方向上的上述长度相对于上述第2电极的上述第2方向上的长度的比为0.5以上2.0以下。

11.如权利要求1或2所述的半导体装置,其中,

上述第1电极与上述第2绝缘部之间的上述第1方向上的距离相对于上述第1电极与上述第2半导体区域之间的上述第1方向上的距离的比为0.1以上0.5以下。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社,未经株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010057721.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top