[发明专利]具有抗反射涂层的透明覆盖物有效

专利信息
申请号: 201980068976.3 申请日: 2019-10-03
公开(公告)号: CN112888971B 公开(公告)日: 2023-06-02
发明(设计)人: 斯蒂芬·S·威尔逊 申请(专利权)人: 锐思凌光学有限责任公司
主分类号: G02B1/113 分类号: G02B1/113;B32B7/023;B32B7/12;B32B9/04;B32B18/00
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 龙涛峰;李彦伯
地址: 美国内*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种能固定至基底的透明覆盖物包括:两个以上的透镜的堆叠;置于两个以上的透镜中的每对相邻透镜之间的粘合剂层;在堆叠中的第一最外透镜上的第一抗反射涂层;以及在堆叠中的与第一最外透镜相反的第二最外透镜上的第二抗反射涂层。第一抗反射涂层具有第一设计波长范围,并且第二抗反射涂层具有与第一设计波长范围不同的第二设计波长范围。
搜索关键词: 具有 反射 涂层 透明 覆盖
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于锐思凌光学有限责任公司,未经锐思凌光学有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201980068976.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
  • 具有抗反射涂层的透明覆盖物-201980068976.3
  • 斯蒂芬·S·威尔逊 - 锐思凌光学有限责任公司
  • 2019-10-03 - 2023-06-02 - G02B1/113
  • 一种能固定至基底的透明覆盖物包括:两个以上的透镜的堆叠;置于两个以上的透镜中的每对相邻透镜之间的粘合剂层;在堆叠中的第一最外透镜上的第一抗反射涂层;以及在堆叠中的与第一最外透镜相反的第二最外透镜上的第二抗反射涂层。第一抗反射涂层具有第一设计波长范围,并且第二抗反射涂层具有与第一设计波长范围不同的第二设计波长范围。
  • 光学层叠体的制造方法-202180054441.8
  • 小林智明;黄臻;铃木克利;铃木嗣人;木伏祐子 - 迪睿合株式会社
  • 2021-09-08 - 2023-05-05 - G02B1/113
  • 该光学层叠体的制造方法是依次层叠塑料薄膜、密合层、光学功能层和防污层而成的光学层叠体的制造方法,其包括形成密合层的密合层形成工序、形成光学功能层的光学功能层形成工序、以规定的式(1)所示的表面粗糙度的变化率为5~35%或规定的式(2)所示的要素的平均长度的变化率为7~70%的方式对所述光学功能层的表面进行处理的表面处理工序和在经表面处理的所述光学功能层上形成防污层的防污层形成工序。
  • 与波导光学系统一起应用的抗反射涂层及形成方法-202180036019.X
  • 迈克尔·杰罗姆·坎格米;王滨 - 康宁公司
  • 2021-04-13 - 2023-01-31 - G02B1/113
  • 一种抗反射涂层,其包括多个第一层,每个第一层包含具有相对较高折射率的第一材料;以及多个第二层,每个第二层包含具有相对较低折射率的第二材料。由所述第一材料构成的所述第一层的总厚度为约120nm或更小。另外,当在全内反射下传播光时,所述抗反射涂层被组态以在约425nm至约495nm之间的每个波长处吸收约0.25%或更少的光,以对所述光的s偏振及p偏振的平均值进行单反射。
  • 用于为光学镜片提供提高的耐磨性的方法及其装置-202180032877.7
  • M·J·洛克伍德 - 依视路国际公司
  • 2021-05-18 - 2022-12-30 - G02B1/113
  • 本披露涉及一种具有提高的耐磨性的光学镜片。在实施例中,本披露描述了一种提高镜片的耐磨性的方法,该方法包括在真空沉积室内在镜片基材(410)的凸表面上沉积预定厚度的无机层(415,优选地二氧化硅),以及将防污材料(425)作为镜片的最顶层施加至沉积的无机层的暴露表面。镜片基材可以包括在基础基材的凸表面上的硬涂层(412)。在实施例中,该方法进一步包括将镜片基材的凸表面暴露于离子束预清洁持续预定时间段。
  • 电介质膜、其制造方法和使用其的光学构件-201980083534.6
  • 粕谷仁一;多田一成 - 柯尼卡美能达株式会社
  • 2019-10-31 - 2021-07-30 - G02B1/113
  • 本发明的课题在于提供表面的耐盐水性和耐伤性优异并且在高温高湿环境下能够长期地维持低的水接触角的电介质膜、其制造方法和使用其的光学构件。本发明的电介质膜是在透明基板上具备的电介质膜,其特征在于,所述电介质膜具有至少1层低折射率层,所述电介质膜的最上层是含有SiO2、膜密度为92%以上的层,并且该最上层含有电负性比Si小的元素。
  • 深红色、近红外和可见光范围中的反射减少的光学装置-201980061424.X
  • F·德艾加维斯 - 依视路国际公司
  • 2019-09-16 - 2021-04-30 - G02B1/113
  • 此光学装置包括眼科镜片和在深红色与近红外区域中发射的光源。所述眼科镜片的前面和后面均涂覆有干涉涂层。对于范围从700nm至小于或等于2500nm的预定最大波长的波长,在入射角小于或等于45°时,后干涉涂层的平均反射率小于或等于2.5%。对于范围从700nm至预定最大波长的波长,在入射角小于或等于45°时,如果所述源指向所述眼科镜片的前面,则所述前干涉涂层的平均反射率小于或等于2.5%,或者如果所述源指向所述眼科镜片的后面,则所述前干涉涂层的平均反射率大于或等于25%。
  • 表面微细结构的形成方法和具备表面微细结构的物品-201980033091.X
  • 伊东孝洋 - 吉奥马科技有限公司
  • 2019-05-17 - 2020-12-25 - G02B1/113
  • 本发明提供一种表面微细结构的形成方法,其能够在温和的条件下,不使用强力的化学药剂、空孔形成性物质,简便且低成本地在物品的表面形成微细结构。另外,将处理的对象也拓展至从耐热性、耐化学药剂性等观点出发而难以在表面形成微细结构的物品,提供具有亲水性和/或低反射性的具备表面微细结构的物品。一种表面微细结构的形成方法,其特征在于,进行以下工序:准备被处理物的被处理物准备工序、在上述被处理物上层叠包含第1物质和第2物质的前体层的前体层层叠工序、以及将上述前体层层叠工序中得到的上述前体层在处理液中浸渍而将上述第2物质溶解的处理工序。
  • 二氧化硅膜、光学构件及偏振构件-201580036067.3
  • 小堀重人 - 三星电子株式会社
  • 2015-06-30 - 2019-07-23 - G02B1/113
  • 提供这样的二氧化硅膜,即使在所述二氧化硅膜中含有中空二氧化硅颗粒时其膜强度也不容易降低。另外,提供具有低反射率的二氧化硅膜等。二氧化硅层(二氧化硅膜)包括二氧化硅和氟化中空二氧化硅颗粒。二氧化硅通过将聚硅氮烷转化为二氧化硅形成。氟化中空二氧化硅颗粒局部分布于二氧化硅层的表面上。氟化中空二氧化硅颗粒局部化的部分具有低折射率层的功能,而除氟化中空二氧化硅颗粒所在部分以外的部分具有硬质涂层的功能。
  • 光学组件、红外线照相机及光学组件的制造方法-201580012797.X
  • 高桥裕树;金谷元隆 - 富士胶片株式会社
  • 2015-03-03 - 2018-04-10 - G02B1/113
  • 本发明提供一种硫属化物玻璃与防反射膜的密合性良好的光学组件、以及具备该光学组件的红外线照相机及其制造方法。在锗和硒的组成比为百分之60以上的硫属化物玻璃(2)上形成防反射材料(3A)。防反射材料(3A)相对于10.5μm的光的消光系数为0.01以下,且相对于10.5μm的波长的光的折射率大于1且为2.6以下。这种防反射材料(3A)以0.5μm以上且2.0μm以下的间距形成于硫属化物玻璃(2)的表面,从而形成有防反射膜(3)。与在硫属化物玻璃(2)的表面上均匀地涂敷有防反射材料(3A)的情况相比防反射膜(3)的密合性变高。
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top