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[发明专利]有机电致发光元件用电极、有机电致发光元件、有机电致发光显示装置和有机电致发光元件用电极的制造方法-CN201880020886.2有效
发明人：伊东孝洋 -专利权人： 吉奥马科技有限公司
申请日： 2018-03-28 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： H05B33/26 文献下载
摘要：本发明提供：通过降低可见光区域的反射率来抑制外部反射、且能够任意地调整功函数、而能用于有机EL元件的阳极、阴极中的任一者的有机EL元件用电极；以及有机EL元件用电极的制造方法。通过有机EL元件用电极(20)解决，所述有机EL元件用电极(20)包含：以金属或合金为主要成分的导电层(1)、设置在该导电层上的可见光区域的反射率为40％以下的黑化层(2)、和设置在该黑化层上且具有规定的功函数的由透明导电氧化物构成的功函数调整层(3)，所述有机电致发光元件用电极的可见光区域的反射率为10％以下，薄层电阻为1Ω/sq以下。
有机电致发光元件用电显示装置制造方法

[发明专利]树脂基板层叠体及电子设备的制造方法-CN201880013729.9有效
发明人：菅原浩幸 -专利权人： 吉奥马科技有限公司
申请日： 2018-09-20 - 公布日： 2021-02-12 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供能使用低能量的激光、以短时间的光照射处理将树脂基板从剥离层容易地剥离的树脂基板层叠体及使用了树脂基板层叠体的电子设备的制造方法。通过如下树脂基板层叠体来解决，所述树脂基板层叠体的特征在于，其具备：具有支承基板(1)和层叠于支承基板(1)上的剥离层(2)带剥离层的支承基板(4)、和可剥离地层叠于剥离层(2)的与支承基板(1)相反侧的表面上的树脂基板(3)，剥离层(2)的表面的组成为SixCyOz(0.05≤x≤0.49，0.15≤y≤0.73，0.22≤z≤0.36，x+y+z＝1)。
树脂层叠电子设备制造方法

[发明专利]表面微细结构的形成方法和具备表面微细结构的物品-CN201980033091.X在审
发明人：伊东孝洋 -专利权人： 吉奥马科技有限公司
申请日： 2019-05-17 - 公布日： 2020-12-25 - 主分类号： G02B1/113 文献下载
摘要：本发明提供一种表面微细结构的形成方法，其能够在温和的条件下，不使用强力的化学药剂、空孔形成性物质，简便且低成本地在物品的表面形成微细结构。另外，将处理的对象也拓展至从耐热性、耐化学药剂性等观点出发而难以在表面形成微细结构的物品，提供具有亲水性和/或低反射性的具备表面微细结构的物品。一种表面微细结构的形成方法，其特征在于，进行以下工序：准备被处理物的被处理物准备工序、在上述被处理物上层叠包含第1物质和第2物质的前体层的前体层层叠工序、以及将上述前体层层叠工序中得到的上述前体层在处理液中浸渍而将上述第2物质溶解的处理工序。
表面微细结构形成方法具备物品

[发明专利]温度校正装置以及温度计测装置-CN201980025307.8在审
发明人：山崎庆春;宫武正平 -专利权人： 吉奥马科技有限公司
申请日： 2019-04-18 - 公布日： 2020-11-20 - 主分类号： G01K7/14 文献下载
摘要：提供一种能将薄膜热电偶元件与通用的大块热电偶元件用的温度显示装置连接地进行热电动势的变换的温度校正装置以及温度计测装置。通过温度校正装置解决，该温度校正装置与薄膜热电偶元件连接，该薄膜热电偶元件具备至少一个的一对薄膜，该一对薄膜包括不同种类的金属，在一端侧的测温用接点相互地连接，并且在另一端具有一对外部接点，该温度校正装置的特征在于，具备：至少一对输入端子，包括导电性材料，且分别与所述一对外部接点连接；至少一对输出端子，能分别与连结于温度显示装置的一对导线连接且包括导电性材料，所述温度显示装置使用所输入的电压来计算温度，显示计算出的温度；运算单元，校正所述至少一对输入端子间的电压的检测值，运算校正后电压；和电压施加单元，在所述至少一对输出端子间输出所述校正后电压，所述至少一对输入端子与所述薄膜热电偶元件的所述一对外部接点连接，在所述至少一对输出端子与所述温度显示装置进行了连接时，对所述温度显示装置输出所述校正后电压。
温度校正装置以及温度计

[实用新型]液晶显示装置-CN202020192745.3有效
发明人：工藤幸博;宫山隆;三好智勇 -专利权人：三菱电机株式会社;吉奥马科技有限公司
申请日： 2020-02-21 - 公布日： 2020-11-17 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：涉及液晶显示装置。使遮光膜的开口轮廓充分地难以辨识。以层叠膜与透明导电膜及相对基板接触的方式在透明导电膜和相对基板之间设置有层叠膜。层叠膜包含低折射率层(13a)、高折射率层(13b)、低折射率层(13c)、高折射率层(13d)。在从透明导电膜朝向相对基板的方向上，以按低折射率层(13a)、高折射率层(13b)、低折射率层(13c)及高折射率层(13d)的顺序存在的方式设置这些层。低折射率层(13a)及低折射率层(13c)均由材料(Ma)构成。材料(Ma)的光折射率落在1.4至1.6的范围内。高折射率层(13b)及高折射率层(13d)均由材料(Mb)构成。材料(Mb)的光折射率落在1.9至2.1的范围内。
液晶显示装置

[发明专利]蛾眼转印模、蛾眼转印模的制造方法及蛾眼结构的转印方法-CN201980002307.6在审
发明人：谷口淳;菅原浩幸 -专利权人：学校法人东京理科大学;吉奥马科技有限公司
申请日： 2019-06-12 - 公布日： 2020-05-22 - 主分类号： B29C33/38 文献下载
摘要：本发明提供制造工序简易且廉价的蛾眼转印模和蛾眼转印模的制造方法。一种蛾眼转印模(1)，其特征在于，其具备基材(10)、形成在该基材(10)上的基底层(20)和形成在该基底层(20)上的玻璃碳层(30)，该玻璃碳层(30)在其表面(30a)具有反转的蛾眼结构(RM)，上述反转的蛾眼结构(RM)为无规排列的锥状的孔。
蛾眼转印模制造方法结构

[发明专利]光电极及其制造方法、以及光电化学元件-CN201680041939.X有效
发明人：野村幸生;伊东孝洋;羽藤一仁 -专利权人：松下知识产权经营株式会社;吉奥马科技有限公司
申请日： 2016-06-14 - 公布日： 2019-10-15 - 主分类号： C25B11/06 文献下载
摘要：本发明的光电极(120)包含：基板(121)、在基板(121)上设置的、Zn的一部分被Ga和Al中的至少任1种元素置换的ZnO导电膜(122)、和对于ZnO导电膜(122)在与基板(121)的相反侧设置的、选自4A族、5A族、6A族和3B族金属元素中的至少任1种金属元素的氮化物或氧氮化物的半导体膜(123)。
电极及其制造方法以及光电化学元件

[发明专利]层叠体、其制造方法和电子设备-CN201580002351.9有效
发明人：伊东孝洋;大津良太 -专利权人： 吉奥马科技有限公司
申请日： 2015-06-17 - 公布日： 2018-01-19 - 主分类号： H01B5/14 文献下载
摘要：本发明提供降低了金属特有的光泽所致的晃眼(反射率)的层叠体、其制造方法和电子设备。一种层叠体(1)，其由透明的基板、在基板上形成的金属层(20)、和在金属层(20)的至少一个面上以与面接触的方式形成的金属化合物层(30a、30b)构成。金属层(20)具备至少一层电阻率为1.0μΩ·cm～10μΩ·cm金属的层、或以金属作为主要成分的合金的层，且电阻率为10μΩ·cm以下，金属化合物层(30a、30b)由透明氧化物半导体物质、与至少一种以上的具有与锌(Zn)同等以上的氧化物生成自由能的金属的混合物构成。
层叠制造方法电子设备

[发明专利]静电容型输入装置及其制造方法-CN201080027537.7有效
发明人：菅原浩幸 -专利权人： 吉奥马科技有限公司
申请日： 2010-06-11 - 公布日： 2012-11-28 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：本发明提供一种透明性高且消耗电力小的静电容型输入装置。静电容型输入装置在透明基板的同一面上具备输入部和输出部，输出部具有输出信号的连接端子、以及将输入部和连接端子电连接的布线图案。输入部具有多个第1电极图案，其由在第1方向相邻配设的多个第1透明导电膜、和电连接第1透明导电膜的导电部件构成；另外，具有第2导电图案，其由在和第1方向交叉的第2方向相邻配设的多个第2透明导电膜、以及在与第1电极图案的导电部件交叉的位置配设的连接部构成。通过同一导电体膜来形成导电部件、连接端子和布线图案，导电体膜由金属层的单层构成或由包含1层以上的金属层的多层构成，导电部件形成为线状。
静电输入装置及其制造方法

[发明专利]光掩模用基板以及光掩模和该光掩模的制造方法-CN200780001862.4无效
发明人：菅原浩幸 -专利权人： 吉奥马科技有限公司
申请日： 2007-11-06 - 公布日： 2009-09-30 - 主分类号： G03F1/08 文献下载
摘要：本发明提供一种通过湿式蚀刻可高精度地形成微细图案的光掩模用基板、光掩模以及该光掩模的制造方法。一种光掩模用基板(2)，其具备透明基板(10)、具有半透射性的半透射层(20)、形成于该半透射层(20)上且对照射光实质上遮光的遮光层(33)，其中，半透射层(20)由氮化钛(TiN_x：在此，0＜x＜1.33)形成，该氮化钛与遮光层(33)相比，相对于蚀刻液(A)为不溶性或难溶性，并且相对于蚀刻液(B)为易溶性。另一方面，遮光层(33)由金属铬(Cr)形成，该金属铬(Cr)与半透射层(20)相比，相对于蚀刻液(A)为易溶性，并且相对于蚀刻液(B)为不溶性或难溶性。由于各层相对于蚀刻液的蚀刻耐性不同，故可不对其它层造成损伤地选择性地蚀刻半透射层(20)和遮光层(33)。
光掩模用基板以及光掩模制造方法

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