[发明专利]半导体结构有效

专利信息
申请号: 201911372912.0 申请日: 2019-12-27
公开(公告)号: CN111384055B 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 林瑄智 申请(专利权)人: 南亚科技股份有限公司
主分类号: H10B12/00 分类号: H10B12/00;G11C11/34;G11C7/18
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 聂慧荃;闫华
地址: 中国台*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开提供一种半导体结构,包括一基底、一控制栅极结构、一熔丝栅极结构,以及一埋置位元线;该基底具有一第一表面、一第一掺杂区、一第二掺杂区,以及一凹处,该第一掺杂区设置在该第一表面下方,该第二掺杂区设置在该第一表面下方,该凹处凹入该基底并设置在该第一掺杂区与该第二掺杂区之间;该控制栅极结构设置在该第一掺杂区上方并电性连接一控制位元线;该熔丝栅极结构设置在该第二掺杂区上方并电性连接一熔丝位元线;该埋置字元线设置在该控制栅极结构与该熔丝栅极结构之间;其中该埋置字元线设置在该基底的该凹处内。
搜索关键词: 半导体 结构
【主权项】:
暂无信息
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