[发明专利]陶瓷板真空溅射镀膜装置及其镀膜方法在审
| 申请号： | 201911221862.6 | 申请日： | 2019-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN110760807A | 公开（公告）日： | 2020-02-07 |
| 发明（设计）人： | 王维昀;王新强;李永德;王后锦;袁冶;康俊杰 | 申请（专利权）人： | 松山湖材料实验室 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50 |
| 代理公司： | 44218 深圳市千纳专利代理有限公司 | 代理人： | 童海霓 |
| 地址： | 523000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种陶瓷板真空溅射镀膜装置及其镀膜方法，陶瓷板真空溅射镀膜装置包括真空腔室、公转工件架、内侧圆柱溅射靶、内侧平面溅射靶、内侧离子源、外侧圆柱溅射靶、外侧平面溅射靶和外侧离子源；内、外侧离子源用于基片表面镀膜前清洁及辅助沉积，有效提升镀层与陶瓷基板的浸润性和结合力；内、外侧圆柱溅射靶和内、外侧平面溅射靶可以同时对平面状或弧面状的陶瓷基板进行单、双面镀膜加工，大大提升工作效率，而且是利用公转工件架的公转带动陶瓷基板移动，陶瓷基板无需自转，确保陶瓷基板与靶材的间隔的的恒定，有利于镀膜的均匀性，也使得待镀陶瓷基板与靶材及离子源之间可实现小间距设置，有效增强膜层附着力，镀膜效果好。 | ||
| 搜索关键词： | 陶瓷基板 离子源 圆柱溅射靶 溅射靶 镀膜 真空溅射镀膜 外侧平面 工件架 陶瓷板 靶材 附着力 恒定 镀膜效果 辅助沉积 工作效率 基片表面 间距设置 内侧平面 双面镀膜 真空腔室 弧面状 结合力 浸润性 均匀性 平面状 增强膜 镀层 自转 清洁 移动 加工 | ||
【主权项】：
1.一种陶瓷板真空溅射镀膜装置，其包括真空腔室，其特征在于：其还包括公转工件架、内侧圆柱溅射靶、内侧平面溅射靶、内侧离子源、外侧圆柱溅射靶、外侧平面溅射靶和外侧离子源，所述真空腔室内呈圆心对称设有若干独立子腔，各个独立子腔上设有供公转工件架作公转动作时穿过的开槽，各个独立子腔上的开槽连接起来形成所述公转工件架作公转动作时的公转轨迹位，所述公转工件架位于该公转轨迹位上，所述内侧圆柱溅射靶和外侧圆柱溅射靶、所述内侧平面溅射靶和外侧平面溅射靶以及所述内侧离子源和外侧离子源两两相对位于所述公转轨迹位的内侧位置和外侧位置，且分布在各个独立子腔中；所述内侧圆柱溅射靶、内侧平面溅射靶、外侧圆柱溅射靶和外侧平面溅射靶的靶材前方位置设有在工作时能打开而不工作时能将靶材覆盖的靶材挡板。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松山湖材料实验室，未经松山湖材料实验室许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201911221862.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种自适应离子强度的磁控溅射台
- 下一篇：一种曲面屏磁控溅射组件
- 同类专利
- 一种梯度复合润滑涂层及其制备方法-201810206310.7
- 宋雪晶;郭智强;罗鸿斌 - 东莞理工学院
- 2018-03-13 - 2020-02-14 - C23C14/35
- 本发明公开一种[WS
- 钴铁铌基靶材-201710929384.9
- 林泓成;黄威智;刘宜陇;郑惠文 - 光洋应用材料科技股份有限公司
- 2017-10-09 - 2020-02-14 - C23C14/35
- 本发明关于一种钴铁铌基靶材，其含有钴、铁、活性成分、第一及第二添加成分，该活性成分包含铌，该第一添加成分可包含钨、钼，该第二添加成分包含镁、碳、硼、铬、钙或其组合；以钴铁铌基靶材中钴、铁、该活性成分、该第一添加成分及该第二添加成分的总量为基准，该活性成分的总量不超过20at％，该活性成分与该第一添加成分的总量不超过25at％，且该第二添加成分之总量不超过0.5at％。通过控制钴铁铌基靶材的组成，其氧化铌占钴铁铌基靶材的表面的比例可有效降低至35颗/mm
- 一种靶材喷涂防护罩-201920083142.7
- 郑江锚;游立章;许胜合;杨锋锋 - 米亚索乐装备集成(福建)有限公司
- 2019-01-18 - 2020-02-14 - C23C14/35
- 本实用新型公开了一种靶材喷涂防护罩，其包括第一罩体、第二罩体及连接机构，所述连接机构用于连接所述第一罩体和所述第二罩体，以使所述第一罩体与所述第二罩体对接形成用于包覆靶材端部的包覆腔。本实用新型实施例的靶材喷涂防护罩，第一罩体和第二罩体通过连接机构实现连接，连接后能够形成用于包覆靶材的端部的包覆腔，结构简单，拆装方便，有益于提高生产效率，降低生产成本。
- 一种高靶材利用率的磁控溅射阴极-201920354514.5
- 张奇龙;李伟 - 杭州朗为科技有限公司
- 2019-03-20 - 2020-02-14 - C23C14/35
- 本实用新型涉及磁控溅射阴极，公开了一种高靶材利用率的磁控溅射阴极，其核心部件为磁钢组和磁轭组成的磁路模块，磁路模块包括一个磁钢组，磁钢组包括三道等距且竖向设置的第一磁钢，第一磁钢的底部各设有一道第二磁钢，第二磁钢与磁轭直接相连，第二磁钢的N/S极分别与其上方的第一磁钢的S/N极连接。本实用新型提供的磁路结构使得磁场提供更多的与靶材平行的磁场分量，从而提升了靶材的利用率，有效节省了材料，同时，因为刻蚀面更加平坦，可以有效提高膜层的均匀性，获得更好的镀膜效果；可以避免频繁更换靶材，降低开真空室的次数，既可以保证生产的连续性，提高工作效率，也可以改善产品的洁净度；提供水路进行降温以避免靶材被熔化。
- 一种中频反应磁控溅射镀膜设备-201920737544.4
- 何云鹏;蔺增;刘兴龙 - 泰安东大新材表面技术有限公司;东北大学
- 2019-05-20 - 2020-02-14 - C23C14/35
- 本实用新型公开了一种中频反应磁控溅射镀膜设备，所述设备包括设备支架、真空腔体和电源柜，所述真空腔体固定在设备支架的上方，所述真空腔体前端设置有离子源，后端中部与离子源相对的位置设置有中频孪生靶，在真空腔体的外侧顶部设置有分子泵；所述真空腔体内部下方设置有基片转台，所述基片转台上设置有至少一个基片架；所述基片转台的转速通过电源柜内的控制器控制。本实用新型所述镀膜设备可使薄膜充分的氧化、氮化，提高了沉积薄膜质量，可适用于不同靶材的溅射，而且所述结构紧凑，设计合理，工艺过程控制简单。
- 成膜装置及电子器件的制造方法-201910586973.0
- 菅原洋纪;内田敏治 - 佳能特机株式会社
- 2019-07-02 - 2020-02-11 - C23C14/35
- 本发明提供一种能够提高靶材料的利用率的技术。成膜装置(1)具备：配置有成膜对象物(10)及靶(30)的腔室(2)；及配置在腔室(2)内的隔着靶(3)而与成膜对象物(10)对置的位置的磁场产生机构(31)，成膜装置(1)的特征在于，具有：沿着靶(30)的长度方向排列配置的多个导电构件(4A、4B)；及对多个导电构件(4A、4B)中的至少一个施加电位，以使多个导电构件(4A、4B)中的至少两个导电构件的电位不同的电位施加机构(26A、26B)。
- 成膜装置以及电子器件的制造方法-201910586974.5
- 菅原洋纪;青沼大介 - 佳能特机株式会社
- 2019-07-02 - 2020-02-11 - C23C14/35
- 本发明提供能够生产率良好且简便地进行预溅射的成膜装置以及电子设备的制造方法。成膜装置(1)具备：将成膜对象物(6)及圆筒形的靶(2)配置于内部的腔室(10)；设置于靶(2)的内部，生成从靶(2)的外周面泄漏的泄漏磁场的磁场产生部件(3)；以及驱动靶(2)旋转的靶驱动部件(11)。磁场产生部件(3)是产生从靶(2)的外表面的与靶(2)的成膜对象物相向的第一区域(A1)泄漏的第一泄漏磁场(M1)、和从靶(2)的外表面的不与靶(2)的成膜对象物(6)相向的第二区域(A2)泄漏的第二泄漏磁场(M2)的部件。第二泄漏磁场(M2)的强度比第一泄漏磁场(M1)的强度低。
- 成膜装置和成膜方法-201910659991.7
- 户岛宏至;岩下浩之;平泽达郎 - 东京毅力科创株式会社
- 2019-07-22 - 2020-02-11 - C23C14/35
- 本发明的课题在于提供一种扩大了加工余量而且难以在放电空间发生与反应气体的反应的使用了反应性溅射的成膜装置和成膜方法。其解决手段一种成膜装置，其包括：处理腔室、释放溅射颗粒的溅射机构、屏蔽释放溅射颗粒的放电空间的溅射颗粒屏蔽部件、设置在处理腔室内的反应室、在反应室内支承基片的基片支承部、使基片移动的移动机构、设置于溅射颗粒屏蔽部件的具有小于基片的面积且使溅射颗粒朝向基片而通过的溅射颗粒通过孔、和向反应室内导入反应气体的反应气体导入部，该成膜装置一边使基片移动，一边使通过了溅射颗粒通过孔的溅射颗粒与导入到反应室的反应气体进行反应，在基片上形成反应性溅射膜。
- 一种磁致伸缩薄膜及其制备方法-201911004945.X
- 朱婧;门阔;连紫薇 - 有研工程技术研究院有限公司
- 2019-10-22 - 2020-02-11 - C23C14/35
- 本发明公开了一种磁致伸缩薄膜及其制备方法，所述薄膜是沉积在单面抛光单晶硅基片上的FeGaB非晶薄膜，厚度400‑800nm；所述制备方法包括：清洗单面抛光单晶硅基片；在基片上采用磁控溅射法通过共溅射沉积FeGaB薄膜。本发明制备的磁致伸缩薄膜具有软磁性能好、饱和场低、磁致伸缩系数高等优点。本发明可用于制备小型化、兆赫兹条件下磁电耦合系数高、综合性能优异的磁电复合薄膜。
- 一种钼平面溅射靶材的制备方法-201911072981.X
- 陈艳芳;谢敬佩;苌清华;毛爱霞;毛志平;马窦琴;赵海丽;柳培;杨斌 - 河南科技大学
- 2019-11-05 - 2020-02-11 - C23C14/35
- 一种钼平面溅射靶材的制备方法，涉及溅射靶材制备技术领域，选用纯度≥99.95%的钼粉为原材料，钼粉经冷等静压压制成钼生坯，然后在微波烧结炉、真空条件下将钼生坯烧结成钼板坯；将烧结好的钼板坯用电子束熔炼的方法进行提纯，采用先锻造开坯后交叉轧制的加工方式加工成钼靶材，经真空退火后，再按照规定规格机加工成成品钼溅射靶材。本发明有益效果：本发明制备出的钼溅射靶材纯度高、杂质含量低、致密度高、晶粒细小均匀，有一定的结晶取向、性能优良。
- 一种磁控光学镀膜设备-201911195415.8
- 冯宪轮;陈达舜 - 湖南华庆科技有限公司
- 2019-11-28 - 2020-02-11 - C23C14/35
- 本发明公开了一种磁控光学镀膜设备，包括呈长方体箱状结构的镀膜设备主体，所述镀膜设备主体内开设有两组由真空封门封闭的真空仓，所述真空仓内设置有镀膜系统及配合待镀件安装的镀膜支架，所述镀膜支架的底部由导向结构支撑，且镀膜支架的顶部由转向结构连接，所述镀膜支架包括四组相互耦合连接的互耦合主板，且四组互耦合主板的中心由上下两组十字形连接板连接，所述互耦合主板上开设有供矩形框架安装的支架安装槽，且支架安装槽在互耦合主板上等距开设有多组，所述矩形框架的顶端居中开设有配合转向电机电机轴的电机轴配合槽。该磁控光学镀膜设备，结构合理，易于实现电镀件的安装调整，适用性强。
- 磁控溅射设备、成膜方法、OLED制备方法及显示面板-201810320190.3
- 薛金祥;孙中元;焦志强;周翔;隋凯;刘文祺 - 京东方科技集团股份有限公司
- 2018-04-11 - 2020-02-11 - C23C14/35
- 一种磁控溅射设备、成膜方法、有机发光二极管(OLED)的制备方法及显示面板。该磁控溅射设备包括：阳极构件，包括可被施加第一电压的阳极部；阴极构件，相对于所述阳极构件设置，包括可被施加小于所述第一电压的第二电压的阴极部；调整机构，配置为可调整至少所述阳极部与所述阴极部之间的相对距离。该磁控溅射设备通过调整阳极部与阴极部之间的相对距离可以降低磁控溅射设备的启辉功率，并可以调节处于阳极部与阴极部之间的离子的动能等。
- 陶瓷板真空溅射镀膜装置及其镀膜方法-201911221862.6
- 王维昀;王新强;李永德;王后锦;袁冶;康俊杰 - 松山湖材料实验室
- 2019-12-03 - 2020-02-07 - C23C14/35
- 本发明公开了一种陶瓷板真空溅射镀膜装置及其镀膜方法，陶瓷板真空溅射镀膜装置包括真空腔室、公转工件架、内侧圆柱溅射靶、内侧平面溅射靶、内侧离子源、外侧圆柱溅射靶、外侧平面溅射靶和外侧离子源；内、外侧离子源用于基片表面镀膜前清洁及辅助沉积，有效提升镀层与陶瓷基板的浸润性和结合力；内、外侧圆柱溅射靶和内、外侧平面溅射靶可以同时对平面状或弧面状的陶瓷基板进行单、双面镀膜加工，大大提升工作效率，而且是利用公转工件架的公转带动陶瓷基板移动，陶瓷基板无需自转，确保陶瓷基板与靶材的间隔的的恒定，有利于镀膜的均匀性，也使得待镀陶瓷基板与靶材及离子源之间可实现小间距设置，有效增强膜层附着力，镀膜效果好。
- 一种曲面屏磁控溅射组件-201911258181.7
- 孙桂红;祝海生;黄乐;陈立;唐洪波;唐莲;凌云;徐璐 - 湘潭宏大真空技术股份有限公司
- 2019-12-10 - 2020-02-07 - C23C14/35
- 本发明提供了一种曲面屏磁控溅射组件，包括公自转伞具转架和多组阴极组件，多组阴极组件与公自转伞具转架不接触，多组阴极组件沿公自转伞具转架的周向分布，每组阴极组件包括两个阴极装置，每个阴极装置包括磁棒，每组阴极组件的两个磁棒的磁场方向可调节，公自转伞具转架包括自转架和多组用于装载基片的公自转架，自转架绕其中心轴可自转的设置，公自转架可自转的安装在自转架上，自转架自转时带动多组公自转架绕所述中心轴公转。本发明基片架带动基片自转同时公转，每组阴极组件的两个磁棒的磁场方向可调节的设置，溅射沉积更均匀。
- 机床的传动元件表面进行金刚石涂层的方法-201810308481.0
- 翁建强 - 翁建强
- 2018-04-09 - 2020-02-07 - C23C14/35
- 本发明的目的是提供一种提高传动元件使用寿命、硬度及自润滑性能的机床的传动元件表面进行金刚石涂层的方法，包括以下步骤：涂层前的清洗：除油、除蜡、干燥；采用磁控溅射真空离子镀膜机进行涂层操作：将滚珠丝杠或直线导轨装到镀膜室转架上，调节转速，关闭镀膜室设备门，抽真空，向镀膜室通入氩气，将镀膜室内温度加热到110‑120℃，开启离子清洗源；清洗完成的滚珠丝杠或直线导轨进行钛靶打底涂层，将滚珠丝杠或直线导轨置于磁控溅射真空系统中，以金属钛靶为阴极，工作气体为氩气，沉积时间20分钟；通过气体放行对零件进行金刚石涂层的涂层；冷却至室温，出炉。
- 磁控溅射镀膜固定装置-201920525047.8
- 樊静波 - 广东东华光电科技有限公司
- 2019-11-07 - 2020-02-07 - C23C14/35
- 本实用新型公开了磁控溅射镀膜固定装置，主体，工件架，所述主体内成型有第一空腔，所述工件架竖直固定于第一空腔内，工件架顶部与第一空腔顶部连接，工件架底部与第一空腔底部连接，所述主体右侧竖直设有主体门，主体门左侧与主体右侧连接，所述主体门左侧壁竖直固定有磁控靶固定块，磁控靶固定块右侧与主体门左侧壁连接，磁控靶固定块内成型有第二空腔，磁控靶固定块中两侧成型有遮挡部，且磁控靶固定块左侧设有开口，开口贯通与第二空腔内，所述第二空腔内竖直固定有磁控靶，磁控靶外左侧上端固定有第一溅射区，磁控靶外左侧下端固定有第二溅射区。
- 磁控溅射阴极系统-201780092148.4
- 王三军;刘圣烈;黄维邦;余晓军 - 深圳市柔宇科技有限公司
- 2017-12-26 - 2020-02-07 - C23C14/35
- 一种磁控溅射阴极系统(10)，磁控溅射阴极系统(10)包括靶材(12)和设置在靶材(12)一侧的多个电磁系统单元(14)。每个电磁系统单元(14)独立工作并能够产生不同的磁力效应，电磁系统单元(14)的磁场线穿过靶材(12)的溅射面(122)。
- 超低磁阻尼的软磁CoFeMnSi合金薄膜及其制备方法-201910965485.0
- 廖政炜;徐锋;徐展;尤柱;杜金威 - 南京理工大学
- 2019-10-12 - 2020-02-04 - C23C14/35
- 本发明公布了一种超低磁阻尼的软磁CoFeMnSi合金薄膜及其制备方法，属于磁性薄膜领域。该合金薄膜由原子比为1:1:1:1的四种元素Co、Fe、Mn、Si组成，为B2结构。本发明通过物理气相沉积法，通过控制退火温度在软磁CFMS合金薄膜上实现了0.002的超低阻尼，与传统磁性金属薄膜相比磁阻尼降低了一个数量级，本发明能够获得具有低磁阻尼且保持优异磁性能的软磁薄膜材料，有助于自旋电子学器件的应用。
- 一种靶材成膜装置-201911148731.X
- 李喜峰;杨世博;袁雁妤;于正航 - 上海大学
- 2019-11-21 - 2020-02-04 - C23C14/35
- 本发明公开一种靶材成膜装置，涉及靶材成膜技术领域，包括对称设置的基板和靶材，所述靶材远离所述基板的一侧设置有磁体，所述磁体上穿设有旋转轴；所述旋转轴与所述基板的运动方向垂直，且所述旋转轴能够带动所述磁体两端靠近或远离所述基板摆动；所述基板靠近所述靶材的一侧均匀开设有凹槽；所述靶材和所述基板之间设置有电场。本发明提供的靶材成膜装置，使基板凹槽处成膜连续，比旋转式靶材成本低，对生产线改动小。
- 一种DLC/Me-C复合薄膜及其制备方法-201910249651.7
- 魏秋平;马莉;周科朝;余志明 - 中南大学
- 2019-03-29 - 2020-02-04 - C23C14/35
- 一种DLC/Me‑C复合薄膜及其制备方法，所述复合薄膜是在金属或合金基体表面采用磁控溅射技术依次制备Me‑C薄膜、DLC薄膜。其制备方法是是将金属或合金基体置于磁控溅射设备中，在金属或合金基体表面原位制备Me‑C薄膜和DLC薄膜。本发明采用射频偏压辅助磁控溅射沉积DLC，高效率地制备出膜基结合强度高，力学性能、耐摩擦性能和耐腐蚀性能均优异的类金刚石薄膜。本发明选用Me‑C过渡层作为缓冲层，解决了DLC膜内应力过高的问题；同时在制备Me‑C缓冲层之前，使用等离子体轰击基底，制备非晶改性层，改善基体表面状态，减小基体和第二相之间腐蚀电位，结果证实非晶层/Me‑C/DLC膜具有优异的力学性能和耐腐蚀性能。
- 一种真空镀膜装置-201822177296.0
- 申屠江民;祝宇;龚阳 - 浙江莱宝科技有限公司
- 2018-12-24 - 2020-02-04 - C23C14/35
- 本实用新型提供一种膜层厚度均匀的真空镀膜装置，包括真空镀膜的腔体、磁钢、靶材、靶罩与基片，所述腔体构造出一立方体空间，所述靶材、靶罩与基片均设置于所述立方体空间内，所述磁钢设置于所述腔体的外壁上，所述靶材设置于所述腔体的内壁上，所述靶罩设置于所靶材上方和侧面，形成一门型，将所述靶材覆盖于所述靶罩内，同时在靶罩的上方设有一开口，所述开口与靶材在腔体上的投影相一致，所述基片设置于所述靶材上方50‑100mm的范围内。在靶罩上设置有挡块，所述挡块外部连接有一旋钮，所述旋钮上设有一把手，所述把手位于真空镀膜腔体外部。在真空镀膜工作条件下，可以灵活调整真空镀膜装置内部挡块结构，进而满足膜层均匀性要求。
- 一种真空磁控溅射镀膜设备-201920326640.X
- 杜彦;杨占雨;李空军;张学善 - 天津南玻节能玻璃有限公司
- 2019-03-14 - 2020-02-04 - C23C14/35
- 本实用新型创造提供了一种真空磁控溅射镀膜设备，包括镀膜箱、以及镀膜箱上转动安装的门体、以及镀膜箱内设置的旋转机构；所述旋转机构包括镀膜箱内转动安装的转盘、以及转盘上设置的用于承载工件的承载架；所述门体边缘设有外裙板，镀膜箱上对应外裙板设有内裙板，所述内裙板上设有用于固定门体的夹紧机构。本实用新型创造结构简单，易于操作，且密封性能很好，通过设置多种固定结构，使门体可以始终稳定的与镀膜箱贴合，大大提高了这种设备运行的稳定性和可靠性；通过在镀膜箱上设置夹紧机构，大大提高了这种设备的密封性能，当需要密封门体时，操作人员只需滑动滑板，使滑板上的夹紧件固定住门体即可，操作起来十分简单。
- 一种磁控溅射镀膜用真空箱-201920326967.7
- 王健;宁超;康万山 - 天津南玻节能玻璃有限公司
- 2019-03-14 - 2020-02-04 - C23C14/35
- 本实用新型创造提供了一种磁控溅射镀膜用真空箱，包括箱体和箱体上转动安装的门体，所述箱体上朝向门体的一侧设有密封条、以及用于固定门体的拉紧机构；所述门体边缘设有外裙板，箱体上对应外裙板设有内裙板，所述拉紧机构包括外裙板上滑动设置的拉板、以及箱体上用于拉紧拉板的伸缩拉杆；所述拉板设置在外裙板上异于箱体的一侧，外裙板和内裙板上均设有用于伸缩拉杆通过的通孔，伸缩拉杆穿过通孔的一端设有用于容纳拉板的过孔。本实用新型创造结构简单，易于操作，且密封性能很好，通过设置多个拉紧机构，伸缩拉杆和拉板可以持续稳定的拉紧固定门体，大大提高了这种真空箱在工作时的稳定性和密封性。
- 一种溅射磁控系统-201920549554.5
- 陈道友;刘韵吉;谈步亮;杨敏红;王玮 - 桑德斯微电子器件(南京)有限公司
- 2019-04-22 - 2020-02-04 - C23C14/35
- 本实用新型分开了一种溅射磁控系统，包括圆形磁铁座3只、与圆形磁铁座对应的靶座3只、一只档板，条形磁铁、靶材，导磁体，所述的圆形磁铁座放在靶座上，三只靶座放上真空腔盖上，档板位于真空腔内；真空腔盖对应靶座的下方设有导磁体；所述的条形磁铁(2)产生的磁场通过导磁体(6)将磁力线引入真空腔(9)中；本新型磁控系统通过改变磁铁的磁场强度、改变靶座导磁体的结构以及腔体内档板的结构，实现了刻蚀均匀性和提高靶材利用率，提高了产品的一致性，降低了生产成本。
- 一种在软基材表面制备低应力DLC薄膜的方法-201810314406.5
- 周意;吕游;尚伦霖;张广安;鲁志斌;刘建北;张志永;丰建鑫 - 中国科学技术大学
- 2018-04-09 - 2020-01-31 - C23C14/35
- 本公开提供了一种在软基材表面制备低应力DLC薄膜的方法，包括：对基材进行预处理；采用物理气相沉积设备对高纯石墨靶材表面进行溅射清洗；固定基材并对基材表面进行等离子体轰击和刻蚀；在基材表面沉积低应力DLC薄膜；以及在真空环境下冷却基材表面沉积的低应力DLC薄膜。
- 具有NO催化释放与EPCs捕获功能的生物材料及其制备方法-201910194707.3
- 杨志禄;郝蕊;潘国庆;黄楠;涂秋芬;熊开琴 - 西南交通大学
- 2019-03-14 - 2020-01-31 - C23C14/35
- 本发明公开了具有NO催化释放与EPCs捕获功能的生物材料及其制备方法，涉及医疗器械技术领域。该制备方法包括在待改性材料表面沉积金属氧化物薄膜，然后将材料浸泡于叠氮化邻酚化合物溶液中，再浸泡于功能化改性溶液中；其中，功能化改性溶液中含有炔基化的能催化释放NO的生物分子和炔基化的具有EPCs捕获功能的生物分子。制备而成的生物材料包括基底材料，基底材料上依次沉积有金属氧化物、叠氮化邻酚化合物和炔基化的功能生物分子，功能生物分子包括能催化释放NO的生物分子和具有EPCs捕获功能的生物分子。该材料同时具备NO催化释放与EPCs捕获功能，能够提高材料的抗凝血性能，同时还能够抑制平滑肌增生、促支架原位再内皮化。
- 防护件和镀膜设备-201822166037.8
- 见东伟;刘福山;邬英;韩晓琳;张伟 - 山西米亚索乐装备科技有限公司
- 2018-12-21 - 2020-01-31 - C23C14/35
- 本实用新型公开了一种防护件和镀膜设备，该防护件包括基板，依次叠层设置在所述基板上的内层、过渡层和防护层，内层、过渡层和防护层的表面粗糙度依次增大。本实用新型提供的防护件，通过在内层和防护层之间设置过渡层，可以提高防护层的表面粗糙度，使得防护件能够更多地承载溅射物质，减少溅射物质对真空腔室的污染。
- 一种用于稀土永磁磁控溅射镀膜的托盘-201920400231.X
- 严长江;叶孟林;钱尼健 - 宁波科田磁业有限公司
- 2019-03-27 - 2020-01-31 - C23C14/35
- 本实用新型公开一种用于稀土永磁磁控溅射镀膜的托盘，包括：托板；挡板，所述挡板设于所述托板的一侧的周壁上；加强板，所述加强板设于所述托板的另一侧，所述加强板上设有若干通孔。本实用新型采用托板与加强板固接双层组合的形式，提高了托盘强度，耐用不易变形，防止变形后磁钢翻料时出现磕碰和掉料，而且采用镂空的形式，减轻了托盘的重量。
- 挂载装置和磁控溅射镀膜系统-201920631449.6
- 陈富松;方政 - 东旭(昆山)显示材料有限公司;东旭光电科技股份有限公司
- 2019-05-05 - 2020-01-31 - C23C14/35
- 本实用新型涉及挂载装置领域，公开了一种挂载装置和磁控溅射镀膜系统，所述挂载装置包括上导轨(1)、下导轨(2)以及安装在所述上导轨(1)和所述下导轨(2)之间的安装架(3)，其中，所述安装架(3)的上端通过上磁悬浮结构安装于所述上导轨(1)，所述安装架(3)的下端通过下磁悬浮结构安装于所述下导轨(2)。上述挂载装置利用磁悬浮原理使安装架不与上导轨和下导轨接触，使得安装架在移动过程中始终悬浮在导轨上，移动过程平稳，避免安装架振动，从而避免安装架中所挂载的工件(例如，玻璃基板等)移动、形变或者破裂，提高成品的质量。
- 旋转阴极排水装置-201920781850.8
- 崔振宇 - 东泰高科装备科技有限公司
- 2019-05-28 - 2020-01-31 - C23C14/35
- 本实用新型提供一种旋转阴极排水装置。该排水装置包括进水轴和出水轴，进水轴和出水轴相互连接，进水轴内开设有进水通道，进水通道内用于容置旋转阴极和冷却水；出水轴内开设有出水通道，出水轴内还设置有开关结构，开关结构设置在进水通道和出水通道的对接处，开关结构能控制出水通道开启和关闭，以控制冷却水从出水通道排出。该排水装置通过设置出水轴，并在出水轴内设置出水通道和开关结构，能够方便地控制出水通道的开启和关闭，从而在更换靶材时方便地控制该排水装置排水，该排水装置排水时无需进行管路拆卸，操作简便，且该排水装置结构简单，易于操作，不仅提高了旋转阴极排水装置的排水效率，而且提高了靶材的更换效率。
- 专利分类
