[发明专利]半导体结构及其制造方法在审
申请号: | 201910957327.0 | 申请日: | 2019-10-10 |
公开(公告)号: | CN112652660A | 公开(公告)日: | 2021-04-13 |
发明(设计)人: | 林永丰;庄理文;尤睿宏;周政道;陈俊旭;周钰杰 | 申请(专利权)人: | 世界先进积体电路股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/778 | 分类号: | H01L29/778;H01L21/335 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 赵平;周永君 |
地址: | 中国台湾新*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明实施例提供一种半导体结构及其制造方法。半导体结构包含一基板以及位于基板上的晶种层,基板包含基材和复合材料层密封(encapsulate)基材。上述半导体结构亦包含位于晶种层上的外延层。上述半导体结构还包含位于外延层上的半导体元件,以及位于外延层上且覆盖半导体元件的层间介电层。上述半导体结构更包含一贯孔结构,至少穿过基板的复合材料层且接触基材,提升半导体元件的电性表现。 | ||
搜索关键词: | 半导体 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
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