[发明专利]一种用于激光拉曼增强的高灵敏基底材料及其制备方法在审
| 申请号： | 201910730688.1 | 申请日： | 2019-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN110344030A | 公开（公告）日： | 2019-10-18 |
| 发明（设计）人： | 周涛;贾礼洋;张集海 | 申请（专利权）人： | 四川大学 |
| 主分类号： | C23C18/14 | 分类号： | C23C18/14;G01N21/65 |
| 代理公司： | 成都高远知识产权代理事务所(普通合伙) 51222 | 代理人： | 李高峡;张娟 |
| 地址： | 610000 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高灵敏度的SERS基底材料，它是以表面金属化的聚合物与一价银离子溶液或三价金离子溶液为原料而制备得到的，其中表面金属化的聚合物是指表面全部覆盖金属层或部分覆盖金属层的聚合物，所述表面金属化的聚合物是通过在聚合物表面沉积金属层得到的；所述聚合物表面的金属层为铜层或镍层中的一种；所述在聚合物表面沉积金属层的方法为激光直接成型技术。本发明还提供了上述高灵敏度SERS基底材料的制备方法，本发明中在聚合物表面进行选择性沉积金属的方法为LDS工艺。本发明公开的SERS基底材料对罗丹明6G的检测浓度下限可以低至10‑17mol/L，远超过绝大多数传统SERS基底的R6G检测浓度下限。而且，本发明高灵敏度SERS基底材料的制备方法简单，SERS检测速度快、精度极高、稳定性好而易于规模生产，可以实现对多种极低浓度有机污染物的大批量检测。 | ||
| 搜索关键词： | 基底材料 聚合物表面 聚合物 制备 表面金属化 高灵敏度 沉积金属层 覆盖金属层 检测 浓度下限 激光直接成型 选择性沉积 一价银离子 有机污染物 规模生产 离子溶液 罗丹明6G 金属层 三价金 基底 镍层 铜层 灵敏 激光 金属 | ||
【主权项】：
1.一种用于激光拉曼增强的高灵敏基底材料，其特征在于：该基底材料是以表面金属化的聚合物与一价银离子溶液或三价金离子溶液为原料制备得到的，其中表面金属化的聚合物是指表面完全或部分覆盖金属层的聚合物；所述表面金属化的聚合物是通过在聚合物表面沉积金属层得到的；所述聚合物表面的金属层为铜层或镍层中的一种；所述在聚合物表面沉积金属层的方法为激光直接成型技术。
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- K.莫;P.W.德奥里维拉;S.舒马彻;E.阿茨 - 新型材料莱布尼兹研究所公益性有限责任公司
- 2011-11-23 - 2013-09-25 - C23C18/14
- 本发明涉及用于制备金属结构的方法，其中将包含光催化活性纳米棒的引发剂组合物施加到基底上。向该层上施加前体组合物，并通过纳米棒的光催化活性还原成金属。通过结构化的辐照可以获得高分辨率的金属结构。
- 用于产生硅层的方法-201080052321.6
- S.韦伯;M.帕茨;R.卡里厄斯;T.布龙格;M.克勒 - 赢创德固赛有限公司
- 2010-11-10 - 2012-07-18 - C23C18/14
- 本发明涉及用于在衬底上热生产硅层的液相方法，其中将至少一种高级硅烷施加到衬底上，然后热转化成基本上由硅构成的层，该高级硅烷能由通式SiaH2a+2(这里a=3-10)的至少一种氢化硅烷来制备，其中该高级硅烷的热转化在500-900℃的温度和≤5分钟的转化时间的情况下进行，本发明还涉及能根据所述的方法生产的硅层以及它们的用途。
- 从聚合物改性的液体硅烷配制剂形成的硅涂层-201080052061.2
- B.施蒂策尔;M.帕茨 - 赢创德固赛有限公司
- 2010-10-18 - 2012-07-18 - C23C18/14
- 本发明涉及在溶剂中含有至少一种硅烷和至少一种碳聚合物的配制剂，和涉及在涂有该配制剂的基材上的硅涂层的生产。
- 含有用于能量辐射的吸收颗粒的层的制造方法-201080022695.3
- J.D.詹森;U.克鲁格;G.温克勒;C.多伊;K.库纳特;R.乌尔里克 - 西门子公司
- 2010-05-12 - 2012-05-09 - C23C18/14
- 本发明涉及在衬底(11)上制造陶瓷层(15)的方法。为此，使用含有化学前驱体的涂层材料。该前驱体通过热处理转化成要制造的陶瓷。本发明提供了用于向各个层中输入热的不同方法。这通过吸收颗粒(16)实现，吸收颗粒(16)可以不同浓度或不同化学组成使用。由此，即使在较低的层区域中也可以针对性地输入热，例如除了传统的热输入(19)之外通过微波激发(16)或UV或IR光输入。因此有利地，较厚的层特别可以通过单个热处理层制备。
- 一种在有序多孔氧化铝模板中制备银纳米线阵列的方法-201110200278.X
- 杨修春;陆伟;候军伟;韩珊珊 - 同济大学
- 2011-07-18 - 2011-11-23 - C23C18/14
- 本发明属于纳米材料制备领域，公开了一种在有序多孔氧化铝模板中制备银纳米线阵列的方法，该方法包括以下步骤：(1)将高纯铝片进行退火，超声清洗，去除自然氧化膜，进行电化学抛光，进行二次阳极氧化，去除未氧化的铝基底，通孔，制备出双通的有序多孔氧化铝模板；(2)采用双室化学沉积法，在有序多孔氧化铝模板中填充溴化银纳米线；(3)用紫外灯照射填充溴化银纳米线后的有序多孔氧化铝模板，溴化银发生光解，在有序多孔氧化铝模板中形成银纳米线阵列。本发明方法简化了银纳米线阵列的制备过程，对实验设备要求低，操作简单，成本低，有利于银纳米线阵列在有序多孔氧化铝模板中低成本快速填充。
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法，例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法，例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀，即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法，例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法，例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀，即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
