[发明专利]蚀刻方法在审
| 申请号： | 201910275649.7 | 申请日： | 2019-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN110167273A | 公开（公告）日： | 2019-08-23 |
| 发明（设计）人： | 孟小欢;苗新民 | 申请（专利权）人： | 沧州硕金生物科技有限公司 |
| 主分类号： | H05K3/06 | 分类号： | H05K3/06;C23F1/02;C23F1/18;C23F1/26 |
| 代理公司： | 北京国翰知识产权代理事务所(普通合伙) 11696 | 代理人： | 吕彩霞 |
| 地址： | 061000 河北省沧州市市*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明提供一种蚀刻方法，属于蚀刻技术领域，包括：S1步骤：在沉积在基底上的金属膜上涂覆抗蚀膜；S2步骤：对完成所述S1步骤的基底进行曝光，去除显影部分的抗蚀膜，形成预定形状的抗蚀膜图案；S3步骤：将完成所述S2步骤的基底用蚀刻液进行蚀刻，形成金属布线图案；S4步骤：将完成所述S3步骤的基底的金属膜表面上剩余的抗蚀膜移除；其中，S3步骤用蚀刻液包含过硫酸盐、无机酸、磺酸化合物和氨基葡萄糖酸。本发明蚀刻方法具有可控的蚀刻速率、避免侧面蚀刻现象、蚀刻效果好、精确的厚度蚀刻和无蚀刻残留物的优点，蚀刻的均匀性和稳定性较佳，所用抗蚀膜具有出色的耐热性且几乎不开裂，抗蚀膜的图像轮廓清晰。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 抗蚀膜 基底 蚀刻液 金属布线图案 氨基葡萄糖 磺酸化合物 金属膜表面 蚀刻残留物 耐热性 过硫酸盐 图像轮廓 预定形状 金属膜 均匀性 可控的 无机酸 沉积 去除 涂覆 显影 移除 图案 侧面 曝光 清晰 | ||
【主权项】：
1.蚀刻方法，其特征在于：包括：S1步骤：在沉积在基底上的金属膜上涂覆抗蚀膜；S2步骤：对完成所述S1步骤的基底进行曝光，去除显影部分的抗蚀膜，形成预定形状的抗蚀膜图案；S3步骤：将完成所述S2步骤的基底用蚀刻液进行蚀刻，形成金属布线图案；S4步骤：将完成所述S3步骤的基底的金属膜表面上剩余的抗蚀膜移除；所述S3步骤用蚀刻液包含过硫酸盐、无机酸、磺酸化合物和氨基葡萄糖酸。
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