[发明专利]一种电磁感应加热式纳米压印装置在审

专利信息
申请号: 201910259870.3 申请日: 2019-04-02
公开(公告)号: CN110007556A 公开(公告)日: 2019-07-12
发明(设计)人: 陈乾;傅欣欣;葛海雄 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;H05B6/10
代理公司: 江苏法德东恒律师事务所 32305 代理人: 李媛媛
地址: 210046 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种电磁感应加热式纳米压印装置,包括压印腔、升降台、承压台和升降柱。其中,升降台位于压印腔的上方,在升降台上依次放置电磁感应线圈、衬底和铁磁性模板;承压台固定在升降柱上,并位于升降台的上方;升降台与升降柱连接,并能沿着升降柱上下移动;压印腔通过加压管与加压器连接。本发明的装置可以实现热纳米压印的快速升温和快速降温,极大的提高了纳米压印的效率。
搜索关键词: 升降台 升降柱 压印 电磁感应加热式 纳米压印装置 纳米压印 承压台 电磁感应线圈 快速降温 快速升温 上下移动 加压管 加压器 铁磁性 衬底 升降
【主权项】:
1.一种电磁感应加热式纳米压印装置,包括压印腔(1)、升降台(3)、承压台(2)和升降柱(4),其特征在于,所述升降台(3)位于压印腔(1)的上方,在升降台(3)上依次放置电磁感应线圈(6)、衬底(8)和铁磁性模板(9);所述承压台(2)固定在升降柱(4)上,并位于升降台(3)的上方;所述升降台(3)与升降柱(4)连接,并能沿着升降柱(4)上下移动;所述压印腔(1)通过加压管(71)与加压器(7)连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京大学,未经南京大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910259870.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
  • 一种利用室温转移压印技术制备无残留层的氧化锌图案的方法-201611093029.4
  • 石刚;车友新;李赢;王大伟;倪才华;桑欣欣;王利魁 - 江南大学
  • 2016-12-02 - 2019-11-12 - G03F7/00
  • 本发明涉及一种利用室温转移压印技术制备无残留层的氧化锌图案的方法,依以下方法制备:(1)首先将热塑性聚合物溶液与氧化锌溶胶或锌盐溶液进行混合配制成前驱液;(2)然后将前驱液旋涂或喷涂在表面具有凸凹结构的软模板表面,形成复合膜;(3)然后在室温下将步骤(2)得到的软模板与亲水基底接触,复合膜转移到基底表面;(4)然后将步骤(3)得到的样品煅烧,冷却至室温;(5)最后将步骤(4)中得到的样品置于锌盐、六甲基四胺和水的混合溶液中,水热条件下,在基底表面形成无残留层的氧化锌图案。本发明涉及材料微纳加工技术领域,可以利用室温转移压印技术在平面和曲面基底制备无残留层氧化锌图案。
  • 感光性层叠体和其制造方法-201910342786.8
  • 井上浩辅 - 旭化成株式会社
  • 2019-04-26 - 2019-11-08 - G03F7/00
  • 感光性层叠体和其制造方法。[课题]本发明的目的在于提供不易受到异物影响的感光性层叠体。[解决方案]感光性层叠体的制造方法包括:第1层叠体形成工序,在基板上层叠感光性树脂层叠体,形成基板与感光性树脂层叠体的层叠体即第1层叠体,感光性树脂层叠体具备支撑薄膜(1)和形成于前述支撑薄膜(1)上的包含感光性树脂组合物的感光性树脂组合物层(6);曝光工序,从前述第1层叠体剥离支撑薄膜(1),将剥离了支撑薄膜(1)的感光性树脂组合物层(6)进行曝光,形成具有曝光部和未曝光部的感光性树脂组合物层;和,第2层叠体形成工序,在前述具有曝光部和未曝光部的感光性树脂组合物层(6)上层叠覆盖薄膜(2),形成第2层叠体。
  • 压印装置、压印方法以及物品的制造方法-201510003778.2
  • 岩井俊树;筱田健一郎 - 佳能株式会社
  • 2015-01-05 - 2019-11-08 - G03F7/00
  • 本发明提供压印装置、压印方法以及物品的制造方法。所述压印装置包括控制单元,其被构造为进行检测处理,其中所述检测处理包括第一处理和第二处理,在所述第一处理中,使检测光学系统在以使得基准标记位于所述检测光学系统的视野外的方式定位基板台的状态下检测模具侧标记,在所述第二处理中,使所述检测光学系统在以使得所述模具侧标记针对所述检测光学系统散焦的方式定位所述模具台并且以使得所述基准标记位于所述检测光学系统的视野内的方式定位所述基板台的状态下,检测所述基准标记。
  • 压印装置以及物品的制造方法-201610064697.8
  • 三田裕;新井刚 - 佳能株式会社
  • 2016-01-29 - 2019-11-08 - G03F7/00
  • 本发明提供一种压印装置以及物品的制造方法。所述压印装置通过使用模具,对基板的投射区域上的压印材料形成图案,并且包括:供给单元,其具有各自被配置为排出所述压印材料的多个排出口,并且被配置为将所述压印材料供给至所述基板;以及控制单元,其被配置为控制所述供给单元,以将所述压印材料从所述多个排出口供给到所述投射区域上,其中,所述控制单元基于表示从所述多个排出口中的各个排出所述压印材料的历史的排出历史信息,而在所述多个排出口之中,确定要用于将所述压印材料供给至所述投射区域的排出口。
  • 纳米压印装置-201822028265.9
  • 童美魁;段晓东 - 上海安翰医疗技术有限公司
  • 2018-12-04 - 2019-11-08 - G03F7/00
  • 一种纳米压印装置,用于将纳米压印组件中模板上的纳米图案印制于纳米压印组件的基片上,纳米压印装置包括密封工作室,所述密封工作室上开设有吸气孔及进气孔;真空泵,所述真空泵通过吸气孔与密封工作室相连通;柔性透明覆盖膜,所述柔性透明覆盖膜盖设于所述纳米压印组件上,并跨过所述纳米压印组件的边缘后与所述密封工作室的底板接触,使所述柔性透明覆盖膜与所述密封工作室的底板之间形成一容置所述纳米压印组件的容置腔。该纳米压印装置无需使用高压气体和额外的加压装置,结构简单,操作简便。
  • 压印方法、压印装置和物品制造方法-201510638839.2
  • 薄井义行 - 佳能株式会社
  • 2015-09-29 - 2019-11-05 - G03F7/00
  • 一种压印方法包括:在使得模具和用于压印处理的目标压射区域上的压印材料相互接触之前,获得目标压射区域和模具之间的相对位置,并通过驱动校正单元而执行目标压射区域和模具之间的第一对齐,所述校正单元构造成校正目标压射区域和模具之间的相对位置;在使得模具和目标压射区域上的压印材料相互接触之后,通过驱动校正单元执行目标压射区域和模具之间的第二对齐;以及在第二对齐之后执行目标压射区域上的压印处理;其中,第一对齐包括基于校正单元在用于另外的压射区域的第二对齐中的驱动量执行的对齐,在所述另外的压射区域中,比所述目标压射区域更早地执行了压印处理。以及一种压印装置和制造物品的方法。
  • 压印装置、压印方法及物品制造方法-201510622590.6
  • 近藤阳介;小桥敏范 - 佳能株式会社
  • 2015-09-25 - 2019-11-05 - G03F7/00
  • 本发明提供了一种压印装置、压印方法及物品制造方法。所述压印装置包括:基板台;分配单元;照射单元;接收单元,其被构造为接收从所述分配单元虚拟分配的压印材料;以及控制器,其被构造为使所述虚拟分配的压印材料被来自所述照射单元的能量束照射,而不使所述虚拟分配的压印材料与所述模具接触。
  • 图案形成方法-201510549468.0
  • 大理知哉;近藤丈博;金田直也;曾田荣一 - 东芝存储器株式会社
  • 2015-08-31 - 2019-11-05 - G03F7/00
  • 本发明涉及图案形成方法。根据一个实施例,首先,在处理对象膜上形成由第一辐射敏感性组合物制成的第一抗蚀剂膜。然后,对第一抗蚀剂膜执行曝光和显影以形成第一抗蚀剂图案。之后,执行不溶解处理以使第一抗蚀剂图案不溶于第二辐射敏感性组合物的溶剂。接着,在第一抗蚀剂图案上形成由第二辐射敏感性组合物制成的第二抗蚀剂膜。接着,对第二抗蚀剂膜执行曝光和显影以形成第二抗蚀剂图案。第一辐射敏感性组合物和第二辐射敏感性组合物中的至少一者由对等离子体蚀刻时存在的氧具有耐受性的高分子化合物制成。
  • 压印装置及其工作方法-201610695190.2
  • 关峰;姚继开;何晓龙;黄华 - 京东方科技集团股份有限公司
  • 2016-08-19 - 2019-11-05 - G03F7/00
  • 本发明公开了一种压印装置及其工作方法,所述压印装置包括压印腔体和底座,所述压印腔体与所述底座相互配合形成压印腔室,所述压印腔室之内设置有分隔膜,所述分隔膜将所述压印腔室分隔成第一腔室和第二腔室,所述第一腔室位于所述第二腔室的上方,所述第二腔室之内设置有压印模板和基板,所述压印模板设置在所述分隔模与所述基板之间,所述第二腔室处于真空状态。当所述第一腔室的气体压强大于所述第二腔室的气体压强时,所述分隔膜向下凹陷以推动所述压印模板与所述基板接触,所述压印模板在所述分隔膜的推动下对所述基板进行压印处理。本发明提供的压印技术降低了气泡缺陷率低,提高了大面积施压的均匀性,使得大面积纳米压印技术成为可能。
  • 光掩模集成微塑型方法-201610846947.3
  • 李晖;陈静;张南南;王磊 - 中国科学院深圳先进技术研究院
  • 2016-09-23 - 2019-11-05 - G03F7/00
  • 本发明提供一种简单低成本、可提高生产效率的光掩模集成微塑型方法,其包括如下步骤:S101、在显微镜载玻片的表面涂覆形成牺牲层,并进行烘焙;S102、向微型模具的型腔内滴入光刻胶,并盖上冷却后的显微镜载玻片;S103、对微型模具先进行曝光前预加热,即在50℃~100℃范围内选择多个温度由低至高地依次烘烤;S104、让微型模具在紫外线光源照射下曝光,使型腔内的纳米复合材料固化;S105:对微型模具进行曝光后烘烤,即在50℃~100℃范围内选择多个温度由低至高地依次烘烤;S106、将微型模具冷却到室温后,从模具中脱模,移走载玻片和三维微结构,并除去未交联的薄膜;S107、冲洗三维微结构,并进行干燥。
  • 微接触压印方法-201910665524.5
  • G.克赖因德尔;M.温普林格;M.楚伊基 - EV集团E·索尔纳有限责任公司
  • 2013-12-04 - 2019-10-25 - G03F7/00
  • 本发明涉及微接触压印方法。具体地,本发明涉及借助结构印模的压印面将压印材料转移到衬底的目标表面上以微接触压印结构的方法,其特征在于,该压印材料至少主要地由硅烷构成或者至少主要地由至少一种硅烷衍生物构成,并且该结构印模为软质印模。此外,本发明涉及相关方法,其中该压印材料是至少主要地由有机分子构成的分子组分。
  • 一种纳米压印头及具有该纳米压印头的压印设备-201610105092.9
  • 王亮;谈浩森;汪仲儒;许凯;张博健;李晨晖 - 中国科学技术大学
  • 2016-02-25 - 2019-10-25 - G03F7/00
  • 本发明公开了一种纳米压印头,包括承重支架、模板吸盘、弹性件和至少三个用于控制承重支架纵向移动的电机组件;电机组件安装于外壳上,且下方设置有承重支架,承重支架下端与至少三个弹性件的上端连接,弹性件的下端设有用于吸附模板的模板吸盘。本发明所提供的纳米压印头中,通过将承重支架与模板吸盘之间设置弹性件,可以使得通过电机的作用进行移动的承重支架在下移压动的过程中,将压力通过至少三个弹性件均匀地传递给模板吸盘,从而提高压印效果和压印性能。本发明还公开了一种包括上述纳米压印头的压印设备。
  • 一种二维辅助振动的压印装置及方法-201810318345.X
  • 谷岩;杨士通;刘亚梅;戴得恩;陈斯;李景鹏;张群;郑恭承;易正发;冯开拓;卢昊;杨振;王俊强;张哲名;苍新宇;徐梓苏;付斌 - 长春工业大学
  • 2018-04-11 - 2019-10-22 - G03F7/00
  • 一种二维辅助振动的压印装置及方法,其包括工作台、XY轴位移台、Z轴位移台、二维微动平台、压印装置、加热板。涂胶后的衬底置于二维微动平台上,XY轴位移台将二维微动平台移动到模板下方,加热板对光刻胶进行预热,光刻胶未达到玻璃化温度,预热完成后,启动二维微动平台并带动衬底实现二维振动,Z轴位移台控制压印装置对衬底进行压印,压印完成后在空气中冷却固化,最后进行振动辅助脱模,本发明采用二维微动平台带动衬底实现压印时X轴、Y轴振动,使压印过程产生剪切变形进而使光刻胶非弹性变形或流动,提高模板空腔的填充率,增强压印图案的保真度,提高压印效率,降低脱模时的粘附力,对大尺寸特征以及高纵宽比的微结构压印成型十分有利。
  • 一种纳米压印光刻装置及其方法-201310447608.4
  • 袁伟 - 上海集成电路研发中心有限公司
  • 2013-09-26 - 2019-10-22 - G03F7/00
  • 一种纳米压印光刻装置,用于对表面涂有电感性光刻胶的衬底进行光刻,包括:模板基板、压印模板和电子源;压印模板具有导电性,位于模板基板的表面上,与衬底上的光刻胶面相向设置,压印模板具有与形成目标图案的反向凹凸图案,与被刻衬底上的电感光刻胶接触;电子源为压印模板中凹凸图案提供电子流;其中,当压印模板上的凸图案与被刻衬底上的电感光刻胶接触时,凸图案上的电子流对电感性光刻胶进行图像化感光。本发明是结合纳米压印技术和电子束曝光技术的优点,使得其具有高度工艺兼容性,提高对准和套刻精度,能更好的控制缺陷,从而获得更高的产率和分辨率。
  • 压印装置及物品的制造方法-201610076426.4
  • 竹村瞬 - 佳能株式会社
  • 2016-02-03 - 2019-10-22 - G03F7/00
  • 本发明提供一种压印装置及物品的制造方法。该压印装置进行通过使用模具对基板上的压印材料形成图案的压印处理,所述压印装置包括:检测单元,其被构造为在进行所述压印处理期间检测错误的发生;以及控制单元,其被构造为在所述检测单元在所述基板上的压印材料被固化之前检测到所述错误的发生的情况下,进行如下错误处理:停止所述压印处理,并在固化所述基板上的压印材料的情况下从所述压印装置卸载所述基板。
  • 一种制备高纵宽比二氧化钛的垂直刻蚀工艺-201910639978.5
  • 宋清海;王雨杰;代振兴;肖淑敏 - 哈尔滨工业大学(深圳)
  • 2019-07-16 - 2019-10-18 - G03F7/00
  • 本发明属于光电探测器件制备技术领域,具体涉及一种制备高纵宽比二氧化钛的垂直刻蚀工艺,所述工艺包括:在ITO玻璃片上镀上一定厚度的二氧化钛,然后在二氧化钛上用均匀旋涂一层PMMA光刻胶;然后通过电子束使得PMMA会发生变性,固化去除,然后在PMMA的地方镀上一层金属掩膜;再对二氧化钛和金属掩膜采用不同的刻蚀速率进行垂直刻蚀,得到高纵宽比的二氧化钛。该工艺具有侧壁近似垂直;选择比高;能加工纵宽比很大的结构;加工方便等优势。
  • 底层组合物和成像底层组合物的方法-201510125436.8
  • P·特雷福纳斯;P·D·胡斯塔德;C·皮埃尔 - 罗门哈斯电子材料有限公司;陶氏环球技术有限公司
  • 2011-09-30 - 2019-10-18 - G03F7/00
  • 一种形成图案的方法,包括通过照射光敏层的一部分,使在包括光酸产生剂的光敏层中产生的酸扩散进入底层的邻近部分中,该底层包括含有酸可分解基团、连接基团和官能团的酸敏共聚物,其中该光敏层配置在底层的表面上,扩散包括加热该底层和光敏层,底层中的酸敏共聚物的酸敏基团与所扩散的酸反应,以在底层的表面上形成极性区域,该极性区域具有图案的形状;去除光敏层;在该底层的表面上形成自组装层,该自组装层包括嵌段共聚物,该嵌段聚合物包括第一嵌段和第二嵌段,其中该第一嵌段形成对齐该极性区域的第一微区,并且该第二嵌段形成了邻近该第一微区对齐的第二微区,并移除该第一或第二微区以暴露出该底层的下层部分。
  • 用于形成自适应层的装置及其使用方法-201910226016.7
  • A·切若拉;M·J·迈斯尔 - 佳能株式会社
  • 2019-03-25 - 2019-10-11 - G03F7/00
  • 本发明涉及用于形成自适应层的装置及其使用方法。一种装置可以包括逻辑元件,所述逻辑元件被配置为至少部分地基于与第一衬底卡盘和第二衬底卡盘相关联的平坦度分布的差异来生成与要在当前衬底上方形成的自适应层相对应的信息。在另一方面中,一种方法可以包括使用先前的衬底获得第一卡盘和第二卡盘的厚度分布的差异,以及在形成与先前形成的图案化层对准的图案化抗蚀剂层之前并且在当前衬底的先前形成的图案化层上方形成自适应层。在一个实施例中,自适应层的厚度分布是衬底卡盘的平坦度分布的差异的倒数的函数。自适应层可以帮助减少与衬底卡盘的不同平坦度分布相关联的重叠误差。
  • 具有理想发射谱的柔性被动冷却薄膜及其制备方法-201910557029.2
  • 高梦宇;郑玉祥;陈良尧;张荣君;王松有;李晶;杨月梅 - 复旦大学
  • 2019-06-26 - 2019-10-11 - G03F7/00
  • 本发明属于能源技术领域,具体为具有理想发射谱的柔性被动冷却薄膜及其制备方法。本发明制备方法包括:获取紫外固化树脂的光学常数;根据光学常数设计光子晶体微结构;通过微纳加工技术在光阻上制备出微结构;通过紫外纳米压印卷对卷方法将微结构制备到柔性衬底上。本发明制备的被动冷却薄膜,在晴天时可以将户外物体的热量通过大气窗口辐射到宇宙空间中。由于本方法制备的辐射冷却薄膜表面具有微结构,可以大大提高辐射冷却的功率,使目标物体的降温幅度增加;同时,使用紫外纳米压印技术与工业卷对卷生产相结合,使本发明制备的冷却薄膜可以制备到柔性塑料衬底上,拓宽了应用的范围。
  • 纳米压印模板的制作方法及纳米压印模板-201610255462.7
  • 陈黎暄;李泳锐 - 深圳市华星光电技术有限公司
  • 2016-04-21 - 2019-10-11 - G03F7/00
  • 本发明提供一种纳米压印模板的制作方法及纳米压印模板。本发明的纳米压印模板的制作方法,先在圆柱状的硬质滚筒的外圆周面上包覆一层软性的具有纳米线栅结构的膜片,形成纳米线栅结构膜层,得到中间筒体,然后利用低熔点焊料合金在所述中间筒体的外圆周面上沿所述纳米线栅结构膜层的纳米线栅结构形成一层结构硬化层,得到具有纳米线栅结构的纳米压印模板;通过在软质的纳米线线栅结构上形成一层硬质的结构硬化层,对软质的纳米线线栅结构进行硬化,从而克服在压印过程中微结构材质本身硬度不够的问题,使得卷对卷微结构压印,特别是纳米线栅压印成为实际工艺中可行的一部分,进而提高线栅偏光片的制作效率。
  • 一种长工作距离的等离激元纳米光刻方法-201910084730.7
  • 王亮;秦金;罗慧雯 - 中国科学技术大学
  • 2019-01-29 - 2019-10-08 - G03F7/00
  • 本发明提供了一种长工作距离的等离激元纳米光刻方法,包括:A)制备领结光刻头部;B)制备曝光衬底;C)将领结光刻头部与曝光衬底紧密接触,即为领结光刻头部的第一银膜层与曝光衬底的光刻胶层紧密接触;D)将采用激光光源,经起偏器和物镜调整获得与领结型孔径尖角平行的曝光光场,经曝光、显影得到纳米结构。与现有技术相比,本发明通过在铝质掩膜中涉及领结型结构,可以实现对光场的局域、增强,以获得更高的分辨率;通过银层与PMMA层折射率匹配,可以提升表面等离激元激发效率,延长曝光距离;通过银层‑光刻胶层‑银层组成金属‑介质‑金属结构,能够实现焦深调制,延长曝光深度。
  • 一种光刻胶图案的制作方法、彩色滤光片及显示装置-201510617500.4
  • 隆清德;康玉龙;梁元;张智勇;樊利伟 - 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
  • 2015-09-24 - 2019-10-01 - G03F7/00
  • 本发明的实施例提供一种光刻胶图案的制作方法、彩色滤光片及显示装置,涉及显示技术领域,可形成窄线宽的黑矩阵,提高显示装置的透过率和开口率。该方法包括:在衬底基板上涂覆负性光刻胶形成第一光刻胶层,并在第一光刻胶层上涂覆正性光刻胶,形成第二光刻胶层;对第二光刻胶层的第一区域进行第一次曝光,经第一次显影后,去除第二光刻胶层中第一区域的正性光刻胶,以及第一光刻胶层中第二区域的负性光刻胶,得到第二光刻胶层中保留的第一光刻胶图案和第一光刻胶层中保留的第二光刻胶图案;对第一光刻胶图案和第二光刻胶图案进行第二次曝光,经第二次显影后,去除第一光刻胶图案,保留第二光刻胶图案。该方法可应用于彩色滤光片的制作过程中。
  • 一种全自动油墨曝光机-201920171516.0
  • 梁添贵;倪沁心;杨大昆;陈建明 - 广东华恒智能科技有限公司
  • 2019-01-30 - 2019-09-27 - G03F7/00
  • 本实用新型涉及曝光机技术领域,尤其是指一种全自动油墨曝光机,包括机架,机架沿着产品加工方向依次设置有上料装置、初定位装置、吸附装置、曝光装置以及下料装置;机架上设置有龙门架,龙门架上设置有四轴机器人,四轴机器人的输出端连接有第一吸附组件,第一吸附组件上设置有至少两个第一定位检测件;机架设置有用于将吸附装置转移至曝光装置中的转移装置,龙门架还设置有用于将物料从吸附装置移料至下料装置的移料装置。本实用新型结构简单,设计合理,实现对油墨板定位曝光的同时,也传送隔板至油墨板,同时对隔板进行定位,实现在油墨板上准确添加隔板的位置,曝光精度高,使用方便,而且可以提高工作效率,减少人工操作难度。
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top