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[发明专利]基于卷积神经网络的智能闪电识别方法-CN201910063035.2有效
发明人：祝宝友;彭长志;王文伟;刘非凡;马明;汪仲儒;刘国进;万泽润 -专利权人：中国科学技术大学
申请日： 2019-01-23 - 公布日： 2022-09-09 - 主分类号： G06K9/00 文献下载
摘要：一种基于卷积神经网络的智能闪电识别方法，所述识别装置包括：输入端，用于输入待识别闪电波形数据，所述闪电波形数据为一维数组序列；首层卷积层，与所述输入端相连，用于初步提取闪电波形数据的特征向量；中间处理层，与所述首层卷积层相连，用于进一步提取闪电波形数据的特征向量并降低特征向量的维度；全局最大池化层，与所述中间处理层相连，用于把所述中间处理层所提取的闪电波形数据的特征向量降到一维；全连接层，与所述全局最大池化层相连，用于综合所述全局最大池化层降到一维的特征向量；输出端，与所述全连接层相连，用于输出代表闪电类型的一维特征向量。
基于卷积神经网络智能闪电识别方法

[发明专利]基于卷积神经网络的智能闪电识别装置-CN201910063540.7有效
发明人：祝宝友;彭长志;刘非凡;王文伟;马明;汪仲儒;刘国进;万泽润 -专利权人：中国科学技术大学
申请日： 2019-01-23 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： G06K9/00 文献下载
摘要：一种基于卷积神经网络的智能闪电识别装置，所述识别装置包括：输入端，用于输入待识别闪电波形数据，所述闪电波形数据为一维数组序列；首层卷积层，与所述输入端相连，用于初步提取闪电波形数据的特征向量；中间处理层，与所述首层卷积层相连，用于进一步提取闪电波形数据的特征向量并降低特征向量的维度；全局最大池化层，与所述中间处理层相连，用于把所述中间处理层所提取的闪电波形数据的特征向量降到一维；全连接层，与所述全局最大池化层相连，用于综合所述全局最大池化层降到一维的特征向量；输出端，与所述全连接层相连，用于输出代表闪电类型的一维特征向量。
基于卷积神经网络智能闪电识别装置

[发明专利]一种纳米压印头及具有该纳米压印头的压印设备-CN201610105092.9有效
发明人：王亮;谈浩森;汪仲儒;许凯;张博健;李晨晖 -专利权人：中国科学技术大学
申请日： 2016-02-25 - 公布日： 2019-10-25 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种纳米压印头，包括承重支架、模板吸盘、弹性件和至少三个用于控制承重支架纵向移动的电机组件；电机组件安装于外壳上，且下方设置有承重支架，承重支架下端与至少三个弹性件的上端连接，弹性件的下端设有用于吸附模板的模板吸盘。本发明所提供的纳米压印头中，通过将承重支架与模板吸盘之间设置弹性件，可以使得通过电机的作用进行移动的承重支架在下移压动的过程中，将压力通过至少三个弹性件均匀地传递给模板吸盘，从而提高压印效果和压印性能。本发明还公开了一种包括上述纳米压印头的压印设备。
一种纳米压印具有设备

[发明专利]一种纳米压印设备-CN201610105094.8有效
发明人：王亮;谈浩森;汪仲儒;许凯;张博健;李晨晖 -专利权人：中国科学技术大学
申请日： 2016-02-25 - 公布日： 2018-07-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种纳米压印设备，包括纳米压印头，纳米压印头上设置有纳米压印模板，纳米压印模板的下方设置有透明的压印衬底，压印衬底的下方设置有曝光光源，曝光光源为UV‑LED光源。UV‑LED光源安全无污染，且不会产生有害气体，所以可以将光源设置在纳米压印头的外部，且位于压印衬底的下方。压印模板不需要使用透明材质制造，降低了压印模板的制造要求。使用UV‑LED光源还可以提高纳米压印设备的使用寿命，因为UV‑LED的使用寿命长，不受开闭次数的影响，可以降低生产成本，并有效降低人工维护次数。另外，UV‑LED为冷光源，不会产生热辐射，可以适用于热敏材料的粘接，在使用中无需等待预热，且照射强度更强。
纳米压印设备纳米压印衬底压印纳米压印模板曝光光源使用寿命压印模板光源设置热敏材料透明材质冷光源热辐射透明的预热开闭粘接制造照射外部安全维护

[发明专利]一种涂胶装置及具有该涂胶装置的纳米压印设备-CN201610105073.6有效
发明人：王亮;谈浩森;汪仲儒;许凯;张博健;李晨晖 -专利权人：中国科学技术大学
申请日： 2016-02-25 - 公布日： 2018-04-10 - 主分类号： B05C1/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种涂胶装置，包括用于沾取光刻胶的取胶辊和用于将取胶辊上的光刻胶转移到材料上的转移辊，取胶辊和转移辊可沿自身轴线转动的平行设置在支撑架上，支撑架上还设置有用于调整取胶辊和转移辊之间接触紧密程度的微调件。本发明提供的装置中，用于沾取光刻胶的取胶辊和用于转移光刻胶的转移辊可转动的平行设置在支撑架上，且取胶辊和转移辊之间的间距和接触紧密程度可以通过微调件进行调整，实现对光刻胶传递量的控制，合理控制光刻胶量的同时，节省了材料。本发明还公开了一种包括上述涂胶装置的纳米压印设备，该设备由于设置了上述涂胶装置，可以实现光刻胶量的可控设置和合理配置。
一种涂胶装置具有纳米压印设备