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[发明专利]带有止动间隙真空密封件的反应室-CN202211447316.6在审
发明人： 崔炳镇;塞斯·J·巴梅斯伯格;亚历克斯·鲁伊斯 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2022-11-18 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本申请涉及带有止动间隙真空密封件的反应室。一些装置和系统，其包括：反应室的一个或更多个壁；在所述一个或更多个壁中的可调节间隙，其中，在第一间隙表面与面对第一间隙表面的第二间隙表面之间形成可调节间隙，其中，第一间隙表面与第二间隙表面之间的距离是能够调节的；多个止动件，其中，所述多个止动件中的各个止动件被定位在第一间隙表面或第二间隙表面上，其中，所述多个止动件确保可调节间隙的最小距离，其中，多个止动件的总长度小于第一间隙表面长度的1％；以及一个或更多个真空口，其在第一间隙表面或第二间隙表面中。
带有间隙真空密封件反应

[发明专利]用于冷却基板的方法、系统和装置-CN202211328469.9在审
发明人： 崔炳镇;塞斯·J·巴梅斯伯格;亚历克斯·鲁伊斯;尼拉布·K·罗伊 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2022-10-27 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供用于冷却基板的方法、系统和装置。提供了用于在将基板转移到处理室外部之前通过双向冷却处理来冷却处理室中的基板的技术和机构。将第一冷却气体从上部气体源，以向下的方向朝向基板的向上表面引入处理室。将装置放置于基板下方并接近基板。将第二冷却气体从装置，以向上的方向朝向基板的向下表面引入处理室。从装置的主体部分切出一个或更多个间隙，该间隙被构造为，在接近基板放置装置的主体部分期间装置在水平方向上被移动到基板下方的位置时，使装置能够避免与保持基板的支撑结构接触。
用于冷却方法系统装置

[发明专利]平坦化处理、平坦化系统和制造物品的方法-CN202210578234.9在审
发明人：史蒂文·C·沙克尔顿;塞思·J·巴梅斯伯格;吕晓明;崔炳镇 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2022-05-25 - 公布日： 2022-11-29 - 主分类号： H01L21/3105 文献下载
摘要：本发明提供平坦化处理、平坦化系统和制造物品的方法。对基板进行平坦化的方法包括：将可成形材料分配到基板上；使由覆板卡盘保持的覆板与所述基板上的所述可成形材料接触，以形成包括所述覆板、所述可成形材料的膜和所述基板的多层结构；从所述覆板卡盘释放所述多层结构；在所述释放之后，在所述覆板卡盘与所述多层结构之间提供空间；将光源定位到，在所述覆板卡盘与所述多层结构之间所提供的空间中；以及通过使所述多层结构的所述膜暴露于从所述光源发射的光，来固化所述膜。
平坦处理系统制造物品方法

[发明专利]模板复制-CN201711118552.2有效
发明人： 崔炳镇;A·切若拉;M·J·迈斯尔 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2017-11-14 - 公布日： 2022-08-23 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明公开了模板复制。用于执行以下步骤的方法、系统和装置：识别模板的第一有效区的尺寸属性；至少部分地基于所述第一有效区的尺寸属性，确定基板的第二有效区的期望的倍率校正；确定所述模板、基板或这二者的面外变形；将背压力施加于所述模板、基板或这二者，以补偿所述模板、基板或这二者的面外变形；在补偿所述模板、基板或这二者的面外变形之后：i)使定位在所述基板上的压印抗蚀剂与所述模板接触，使得所述第一有效区中的图案特征被所述压印抗蚀剂填充，并且ii)将另外的背压力施加于所述模板、基板或这二者，其中，所述另外的背压力被选择使得所述第二有效区呈现所述期望的倍率校正。
模板复制

[发明专利]使用反馈和前馈控制的纳米压印光刻中的对准控制-CN202080078826.3在审
发明人：娄明吉;崔炳镇;J·D·克莱因;吉田贵裕;S·T·詹金斯 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2020-10-27 - 公布日： 2022-06-24 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：提供了用于控制其上支撑有基板的可移动的台架的位置的系统和方法。从传感器获得表示相对于物体上的标记的基板的位置的第一位置信息。基于所获得的第一位置来生成对准预测信息，其中，所生成的对准预测信息包括至少一个参数值。基于所获得的第一位置信息和所生成的对准预测信息来生成包括该至少一个参数值的第一轨迹信息。基于所生成的对准预测信息、第一轨迹信息和第二位置信息来生成第二轨迹信息，其中，第二位置信息表示可移动的台架的位置。基于第二轨迹信息来生成输出控制信号，并且使用输出控制信号基于所生成的输出信号来控制可移动的台架接近目标位置。
使用反馈控制纳米压印光刻中的对准

[发明专利]大面积压印光刻-CN201811066954.7有效
发明人： 崔炳镇;S·H·安;M·加纳帕斯苏伯拉曼尼安;M·N·米勒;S·V·斯里尼瓦桑 -专利权人：分子制模股份有限公司
申请日： 2013-02-22 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：提供了使用压印光刻技术用于图案化分配在柔性衬底或平坦衬底上的可聚合材料的方法和系统。还呈现了模板复制方法和系统，其中来自主模板的图案被转印到柔性衬底以形成柔性薄膜模板。这样的柔性薄膜模板则被用来图案化大面积平坦衬底。可通过模板和衬底之间的相对平移来发起和传播压印模板和衬底之间的接触。
大面积压印光刻

[发明专利]制造物品的平坦化过程、设备和方法-CN202080051149.6在审
发明人： 崔炳镇;S·J·贝姆斯伯格;斋藤真树;O·奥兹特克 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2020-07-17 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：一种方法，包括：用覆板卡盘保持覆板；施加压力以使覆板朝向基板偏转，覆板的偏转沿径向方向逐渐延伸；保持施加到覆板的周边的真空，并在通过压力使覆板偏转的同时用卡盘持续保持覆板；从覆板的周边解除真空；以及从卡盘释放覆板。
制造物品平坦过程设备方法

[发明专利]制造物品的平整过程、装置和方法-CN202080051174.4在审
发明人： O·奥兹特克;S·J·贝姆斯伯格;斋藤真树;A·阿加里;S·C·沙克尔顿;崔炳镇 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2020-07-17 - 公布日： 2022-02-25 - 主分类号： H01L21/3105 文献下载
摘要：提供了一种方法，所述方法包括在至少基板和覆板的堆叠的边缘上的部位处产生至少一个裂缝；沿着周边扩展所述裂缝；以及相对于所述基板移动所述覆板以完成所述覆板与所述基板的分离。
制造物品平整过程装置方法

[发明专利]板连接组装体-CN202080025515.0在审
发明人：林秀炫;崔炳镇 -专利权人：爱克斯乐博株式会社
申请日： 2020-07-30 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： F16B5/02 文献下载
摘要：根据本发明的一个实施例，提供一种板连接组装体，其包括：第一框架，其上部和下部具备规定的角度；及第二框架，其形成有与上述上部相对的第一支承部和与上述下部相对的第二支承部，在上述上部与上述第一支承部之间固定有任一个对象体，在上述下部与上述第二支承部之间固定有另一个对象体，由此彼此不同的对象体以上述上部和上述下部构成的角度被固定。
连接组装

[发明专利]从形成在衬底上的固化图案层分离纳米压印模板的设备和方法-CN201711029734.2有效
发明人： 崔炳镇 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2017-10-30 - 公布日： 2021-08-03 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明涉及用于从衬底上的固化图案层分离纳米压印模板的方法和设备，最少化了包括最终分离时刻(LPOS)缺陷在内的分离缺陷。该方法可包括：使模板和衬底相对于彼此移动，以产生施加到模板和衬底的张力；测量施加到模板和衬底的张力；判定施加到模板背侧和衬底背侧的压力大小，以便减小施加张力的大小；通过将判定了大小的压力施加到模板背侧和衬底背侧来减小施加到模板或者衬底的张力；然后重复上述步骤一次或者多次，直到模板完全从固化图案层分离为止。设备可配置成实现上述方法。该方法和设备可有利地应用于例如模板复制处理。
形成衬底固化图案分离纳米压印模板设备方法

[发明专利]用于调整模板的位置的系统和方法-CN201711200016.7有效
发明人： 崔炳镇;水野诚 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2017-11-27 - 公布日： 2021-02-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及用于调整模板的位置的系统和方法。用于调整模板的相对位置的方法、系统和装置包括：确定第一模板的有效区域的相邻区域的表面的第一多个位置点，所述相邻区域的表面和有效区域的表面形成第一模板的连续表面；基于第一多个位置点识别第一模板的所述相邻区域的表面的平面；确定第二模板的有效区域的表面的第二多个位置点，第二模板的有效区域从第二模板的表面突出；基于第二多个位置点识别第二模板的有效区域的表面的平面；和基于识别的平面，调整第一模板和第二模板的相对位置。
用于调整模板位置系统方法

[发明专利]用于局部区域压印的非对称模板形状调节-CN201480071488.5有效
发明人： M·加纳帕斯苏伯拉曼尼安;M·M·金凯德;崔炳镇;S·V·斯里尼瓦桑 -专利权人：佳能纳米技术公司
申请日： 2014-12-31 - 公布日： 2021-01-22 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供用于局部区域压印的系统及方法，以使压印模板非对称地调整以容许在与该模板中心间隔开的位置处与基板上的一局部区域初始地接触。
用于局部区域压印对称模板形状调节

[发明专利]用于改进的覆盖纠正的低接触式压印光刻术模板卡盘系统-CN201480061289.6有效
发明人： M·J·美斯尔;A·切罗拉;崔炳镇;S·J·巴梅斯伯格 -专利权人：佳能纳米技术公司;株式会社东芝
申请日： 2014-11-07 - 公布日： 2019-10-25 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：提供压印光刻术模板卡盘和相关系统以及方法，其基本上保持结构支承功能，同时大大地提高压印质量功能。卡盘纳入了动态真空密封件，以在对齐和畸变纠正过程中显著地减小模板接触，同时在分离时仍然提供良好的结构支承。
用于改进覆盖纠正接触压印光刻模板卡盘系统

[发明专利]压印装置和压印局部域的方法-CN201611125066.9有效
发明人： M·J·迈斯尔;张威;崔炳镇;叶正茂 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2016-12-09 - 公布日： 2019-09-10 - 主分类号： B41K3/36 文献下载
摘要：本申请涉及一种压印装置，其包括：基底保持件，所述基底保持件具有吸附区域和凹形支撑段；以及模板保持件，其中，吸附区域面积大于模板区域面积。本申请还涉及一种压印装置，其包括：气体区段；以及气体控制器，所述气体控制器构造成调节气体区段内的压力，以得到与压印装置一起使用的工件的局部域的凸形曲率。本申请还涉及一种方法，其包括：在压印装置内设置工件，其中，工件包括基底和可成形材料；以及使模板在与局部域的外周间隔开的位置处与可成形材料初步接触。在特定的实施例中，所述方法还包括调整基底以形成使模板与可成形材料接触的凸形形状。
压印装置基底可成形材料局部域气体控制器气体区段吸附区域保持件申请曲率凹形支撑模板保持模板区域凸形形状位置处凸形外周压印

[发明专利]大面积压印光刻-CN201380015762.2有效
发明人： 崔炳镇;S·H·安;M·加纳帕斯苏伯拉曼尼安;M·N·米勒;S·V·斯里尼瓦桑 -专利权人：分子制模股份有限公司
申请日： 2013-02-22 - 公布日： 2019-02-01 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：提供了使用压印光刻技术用于图案化分配在柔性衬底或平坦衬底上的可聚合材料的方法和系统。还呈现了模板复制方法和系统，其中来自主模板的图案被转印到柔性衬底以形成柔性薄膜模板。这样的柔性薄膜模板则被用来图案化大面积平坦衬底。可通过模板和衬底之间的相对平移来发起和传播压印模板和衬底之间的接触。
大面积压印光刻

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