[发明专利]半导体工艺片及半导体封装体制造方法在审

专利信息
申请号: 201880074101.X 申请日: 2018-09-05
公开(公告)号: CN111344845A 公开(公告)日: 2020-06-26
发明(设计)人: 志贺豪士;佐藤慧;高本尚英 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: H01L21/56 分类号: H01L21/56;B32B27/00;C09J7/38;H01L21/52
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的半导体工艺片具备双面粘合片(10)和部分密封剂层(20)。双面粘合片(10)在其粘合面(10a、10b)间的层叠结构中包含基材(11)、粘合力降低型的粘合剂层(12)和例如压敏性的粘合剂层(13)。部分密封剂层(20)位于双面粘合片(10)的粘合面(10b)上。本发明的方法例如包括:对粘合面(10a)贴合于支撑体的半导体工艺片的部分密封剂层(20)安装多个半导体芯片的工序;使以包埋半导体芯片的方式供给的密封剂和部分密封剂层(20)固化而形成密封材料部的工序;使密封材料部与粘合面(10b)之间分隔的工序;在密封材料部上形成布线结构部的工序;及将密封材料部和布线结构部按每个半导体芯片进行分割的工序。所述半导体工艺片和方法适于效率良好地制造半导体封装体。
搜索关键词: 半导体 工艺 封装 体制 方法
【主权项】:
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