[发明专利]化合物半导体层叠基板及其制造方法以及半导体元件有效

专利信息
申请号: 201880012091.7 申请日: 2018-02-15
公开(公告)号: CN110301033B 公开(公告)日: 2023-06-09
发明(设计)人: 长泽弘幸;久保田芳宏;秋山昌次 申请(专利权)人: 信越化学工业株式会社;CUSIC股份有限公司
主分类号: H01L21/02 分类号: H01L21/02
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 刘强
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明为化合物半导体层叠基板,是将为包含A和B作为构成元素的相同组成、具有相同的原子排列的2张单晶的化合物半导体基板直接贴合层叠而成的基板,其特征在于,该层叠基板的表面背面为包含A或B的同种的原子的极性面,层叠界面为包含B或A中的任一者的原子之间的键合、并且它们的晶格匹配的单极性的反相位区域边界面。由此,使化合物半导体层叠基板的表面背面的极性面成为单一极性,使半导体元件的工序设计变得容易,同时无需施加复杂的基板加工,可制造低成本、高性能、稳定的半导体元件。
搜索关键词: 化合物 半导体 层叠 及其 制造 方法 以及 元件
【主权项】:
1.化合物半导体层叠基板,是将为包含A和B作为构成元素的相同组成、具有相同的原子排列的2张单晶的化合物半导体基板直接贴合层叠而成的基板,其特征在于,该层叠基板的表面背面为包含A或B的同种的原子的极性面,层叠界面为包含B或A中的任一者的原子之间的键合、并且它们的晶格匹配的单极性的反相位区域边界面。
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