[实用新型]一种新型宽禁带功率半导体器件有效

专利信息
申请号: 201822060258.7 申请日: 2018-12-10
公开(公告)号: CN209029379U 公开(公告)日: 2019-06-25
发明(设计)人: 李鹏;颜剑;谭在超;丁国华;罗寅;张玉明 申请(专利权)人: 西安电子科技大学;苏州锴威特半导体有限公司
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06;H01L29/872;H01L21/8234
代理公司: 南京众联专利代理有限公司 32206 代理人: 顾进
地址: 710075 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 实用新型涉及一种新型宽禁带功率半导体器件,该器件包括第一导电型衬底、沉积在衬底之上的第一导电型外延层、位于外延层内部的第一和第二阱区、第一和第二阱区内具有第二导电型、设置于第一和第二阱区内的第一导电型注入区和第二导电型注入区、设置于第一和第二阱区内侧的多个沟槽、设置在第一导电型注入区和第二导电型注入区上部的欧姆接触电极、设置在沟槽一侧的第二导电型掺杂层、设置在第二导电型掺杂层之间顶部的肖特基接触电极,在沟槽中填充POLY栅,在POLY栅的周围设能包裹住POLY栅的氧化层,在第一导电型衬底的底部设背面电极,在欧姆接触电极、肖特基接触电极和钝化层的顶部设正面电极。本器件的反向损耗低,续流能力大。
搜索关键词: 导电型 注入区 衬底 功率半导体器件 欧姆接触电极 肖特基接触 掺杂层 宽禁带 电极 导电型外延层 本实用新型 背面电极 正面电极 钝化层 外延层 氧化层 续流 阱区 沉积 填充
【主权项】:
1.一种新型宽禁带功率半导体器件,其特征在于:包括第一导电型衬底、沉积在衬底之上的第一导电型外延层、位于外延层内部的第一和第二阱区、第一和第二阱区内具有第二导电型、设置于第一和第二阱区内的第一导电型注入区和第二导电型注入区、设置于第一和第二阱区内侧的多个沟槽、设置在第一导电型注入区和第二导电型注入区上部的欧姆接触电极、设置在沟槽一侧的第二导电型掺杂层、设置在第二导电型掺杂层之间顶部的肖特基接触电极,沟槽向衬底方向延伸,在沟槽中填充POLY栅,在POLY栅的周围设置能包裹住POLY栅的氧化层,在欧姆接触电极和肖特基接触电极之间设置一钝化层,在第一导电型衬底的底部设置背面电极,在欧姆接触电极、肖特基接触电极和钝化层的顶部设置正面电极。
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