[实用新型]芯片和半导体结构有效
申请号: | 201821883150.1 | 申请日: | 2018-11-15 |
公开(公告)号: | CN208923112U | 公开(公告)日: | 2019-05-31 |
发明(设计)人: | 吴秉桓;汪美里 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | H01L23/525 | 分类号: | H01L23/525 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 袁礼君;阚梓瑄 |
地址: | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型涉及半导体技术领域,提出一种半导体结构。该半导体结构可以包括有源块、第一电接触端、栅极氧化层以及栅极块;第一电接触端设于所述有源块之上;栅极氧化层覆盖于所述有源块的多个表面;栅极块上设有第一凹槽,覆盖有所述栅极氧化层的所述有源块插入所述第一凹槽内,从而减少了该半导体结构占用面积。 | ||
搜索关键词: | 半导体结构 源块 栅极氧化层 电接触 半导体技术领域 本实用新型 覆盖 芯片 占用 | ||
【主权项】:
1.一种半导体结构,其特征在于,包括:有源块;第一电接触端,设于所述有源块;栅极氧化层,覆盖于所述有源块的多个表面;栅极块,其上设有第一凹槽,覆盖有所述栅极氧化层的所述有源块插入所述第一凹槽内。
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