[实用新型]芯片和半导体结构有效

专利信息
申请号: 201821883150.1 申请日: 2018-11-15
公开(公告)号: CN208923112U 公开(公告)日: 2019-05-31
发明(设计)人: 吴秉桓;汪美里 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: H01L23/525 分类号: H01L23/525
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 袁礼君;阚梓瑄
地址: 230000 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 半导体结构 源块 栅极氧化层 电接触 半导体技术领域 本实用新型 覆盖 芯片 占用
【权利要求书】:

1.一种半导体结构,其特征在于,包括:

有源块;

第一电接触端,设于所述有源块;

栅极氧化层,覆盖于所述有源块的多个表面;

栅极块,其上设有第一凹槽,覆盖有所述栅极氧化层的所述有源块插入所述第一凹槽内。

2.根据权利要求1所述的半导体结构,其特征在于,所述有源块包括条形块。

3.根据权利要求2所述的半导体结构,其特征在于,所述条形块的数量为多个,多个所述条形块平行设置,且多个所述条形块电连接。

4.根据权利要求2所述的半导体结构,其特征在于,所述有源块还包括:

第一连接块,与所述条形块连接,所述栅极氧化层设于所述条形块表面,所述第一电接触端设于所述第一连接块。

5.根据权利要求4所述的半导体结构,其特征在于,所述条形块的数量为多个,多个所述条形块平行设置且均与所述第一连接块连接。

6.根据权利要求5所述的半导体结构,其特征在于,所述有源块还包括:

第二连接块,连接于多个所述条形块的远离所述第一连接块的一端。

7.根据权利要求1所述的半导体结构,其特征在于,所述有源块包括:

第一环形块,其表面覆盖有所述栅极氧化层,覆盖有所述栅极氧化层的第一环形块插入所述第一凹槽;

第二环形块,所述第二环形块套设于所述第一环形块,其表面覆盖有所述栅极氧化层,覆盖有所述栅极氧化层的第二环形块插入所述第一凹槽;所述第一环形块与所述第二环形块之间具有间隙,所述栅极块的部分区域插入所述间隙,且所述第一环形块与所述第二环形块电连接。

8.根据权利要求1所述的半导体结构,其特征在于,所述半导体结构还包括:

绝缘层,设有第二凹槽,所述有源块嵌入所述第二凹槽且突出于所述第二凹槽,所述栅极氧化层覆盖于所述有源块突出于所述第二凹槽的表面上。

9.根据权利要求1-8任一项所述的半导体结构,其特征在于,所述半导体结构还包括:

第二电接触端,设于所述栅极块。

10.一种芯片,其特征在于,包括:

权利要求1-9任一项所述的半导体结构。

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