[实用新型]芯片和半导体结构有效
申请号: | 201821883150.1 | 申请日: | 2018-11-15 |
公开(公告)号: | CN208923112U | 公开(公告)日: | 2019-05-31 |
发明(设计)人: | 吴秉桓;汪美里 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | H01L23/525 | 分类号: | H01L23/525 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 袁礼君;阚梓瑄 |
地址: | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体结构 源块 栅极氧化层 电接触 半导体技术领域 本实用新型 覆盖 芯片 占用 | ||
本实用新型涉及半导体技术领域,提出一种半导体结构。该半导体结构可以包括有源块、第一电接触端、栅极氧化层以及栅极块;第一电接触端设于所述有源块之上;栅极氧化层覆盖于所述有源块的多个表面;栅极块上设有第一凹槽,覆盖有所述栅极氧化层的所述有源块插入所述第一凹槽内,从而减少了该半导体结构占用面积。
技术领域
本实用新型涉及半导体技术领域,尤其涉及一种半导体结构及包含该半导体结构的芯片。
背景技术
随着芯片集成度越来越高,对芯片中半导体结构的占用面积的要求越来越高。反熔丝是冗余电路中常用的结构,目前使用的反熔丝元件在半导体结构中占用面积较大,使得包含该反熔丝元件的半导体结构的占用面积较大,从而使得包含该半导体结构的芯片面积较大,进而使得芯片成本较大。
因此,有必要提出一种新的反熔丝半导体结构,包含该反熔丝半导体结构的芯片以及该反熔丝半导体结构的制备方法。
所述背景技术部分公开的上述信息仅用于加强对本实用新型的背景的理解,因此它可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服上述现有技术中由于反熔丝半导体结构占用芯片面积较大的问题,提供一种占用面积较小的反熔丝半导体结构。
本实用新型的额外方面和优点将部分地在下面的描述中阐述,并且部分地将从描述中变得显然,或者可以通过本实用新型的实践而习得。
根据本实用新型的一个方面,一种半导体结构,包括:
有源块;
第一电接触端,设于所述有源块;
栅极氧化层,覆盖于所述有源块的多个表面;
栅极块,其上设有第一凹槽,覆盖有所述栅极氧化层的所述有源块插入所述第一凹槽内。
在本公开的一种示例性实施例中,所述有源块包括条形块。
在本公开的一种示例性实施例中,所述条形块的数量为多个,多个所述条形块平行设置,且多个所述条形块电连接。
在本公开的一种示例性实施例中,所述有源块还包括:
第一连接块,与所述条形块连接,所述栅极氧化层设于所述条形块表面,所述第一电接触端设于所述第一连接块。
在本公开的一种示例性实施例中,所述条形块的数量为多个,多个所述条形块平行设置且均与所述第一连接块连接。
在本公开的一种示例性实施例中,所述有源块还包括:
第二连接块,连接于多个所述条形块的远离所述第一连接块的一端。
在本公开的一种示例性实施例中,所述有源块包括:
第一环形块,其表面覆盖有所述栅极氧化层,覆盖有所述栅极氧化层的第一环形块插入所述第一凹槽;
第二环形块,所述第二环形块套设于所述第一环形块,其表面覆盖有所述栅极氧化层,覆盖有所述栅极氧化层的第二环形块插入所述第一凹槽;所述第一环形块与所述第二环形块之间具有间隙,所述栅极块的部分区域插入所述间隙,且所述第一环形块与所述第二环形块电连接。
在本公开的一种示例性实施例中,所述半导体结构还包括:
绝缘层,设有第二凹槽,所述有源块嵌入所述第二凹槽且突出于所述第二凹槽,所述栅极氧化层覆盖于所述有源块突出于所述第二凹槽的表面上。
在本公开的一种示例性实施例中,所述半导体结构还包括:
第二电接触端,设于所述栅极块。
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