[发明专利]一种相变可控的全无机钙钛矿薄膜制备方法及器件应用有效
申请号: | 201811532568.2 | 申请日: | 2018-12-14 |
公开(公告)号: | CN109355638B | 公开(公告)日: | 2021-08-24 |
发明(设计)人: | 徐伟龙;蔡小红;陈海悦;郑敏;肖进;赵宇;卞维柏 | 申请(专利权)人: | 常州工学院 |
主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;C23C16/52;H01L31/032;H01L31/09;H01L31/18 |
代理公司: | 常州西创专利代理事务所(普通合伙) 32472 | 代理人: | 武政 |
地址: | 213032 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: |
本发明属于光电功能材料技术领域,尤其涉及一种相变可控的全无机钙钛矿薄膜制备方法及器件应用。所述方法包括:(1)将先驱物溴化铅和溴化铯分别置于气相沉积装置内,将衬底置于沉积区,并对整个装置抽真空;(2)向气相沉积装置内通入惰性气体;(3)设定沉积温度和沉积时间,沉积温度选自500‑800℃,不同沉积温度下,钙钛矿薄膜的成分和晶型不同。本发明采用化学气相沉积方法,工艺条件简单,易于精确控制,适合产业化生产,同时薄膜均匀性好,与衬底材料附着性,覆盖性好,制备的光电薄膜,具有广阔的应用前景。本发明通过改变沉积温度,实现钙钛矿相从CsPb |
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搜索关键词: | 一种 相变 可控 无机 钙钛矿 薄膜 制备 方法 器件 应用 | ||
【主权项】:
1.一种相变可控的全无机钙钛矿薄膜制备方法,其特征在于,所述方法的具体步骤如下:(1)将先驱物溴化铅和溴化铯分别置于气相沉积装置内,将衬底置于沉积区,并对整个装置抽真空;(2)向气相沉积装置内通入惰性气体;(3)设定沉积温度和沉积时间,沉积温度选自500‑800℃,不同沉积温度下,钙钛矿薄膜的成分和晶型不同。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的