[发明专利]双向可控的可控硅有效

专利信息
申请号: 98104196.5 申请日: 1998-03-20
公开(公告)号: CN1155098C 公开(公告)日: 2004-06-23
发明(设计)人: K·托马斯;P·斯特雷特 申请(专利权)人: ABB瑞士控股有限公司
主分类号: H01L29/747 分类号: H01L29/747
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 马铁良;萧掬昌
地址: 瑞士*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要: 此处的双向可控的可控硅的优点是改善了在两个可控硅结构间的去耦合,特别是不可能由于载流子的不需要的迁移而不受控制地触发串联结构。这通过下面的方法实现:增加阴极区域向着隔离区域减小的度。特别是可以通过下面方法实现:短路区域的每面积单位的密度向着隔离区域趋向一个最大值。使用一个线形的、沿着隔离区域延伸的贯穿的短路区域特别有效。
搜索关键词: 双向 可控 可控硅
【主权项】:
1.在半导体上框架形成的双向可控的可控硅(1),a>在该半导体框架的一侧上的第一个主平面(2)和该半导体框架的相对一侧上的第二个主平面(3)之间,第一个可控硅具有第一个阳极区域(4)、第一个n型基极(5)、第一个p型基极(6)、第一个阴极区域(7)和第一个中心的栅极区域(8),与它反向并联的第二个可控硅结构具有第二个阳极区域(9)、第二个n型基极(10)、第二个p型基极(11)、第二个阴极区域(12)和第二个中心栅极区域(13),其中,第一个阳极区域(4)、第二个阴极区域(2)和第二个栅极区域(13)属于第一个主平面(2),而第二个阳极区域(9)、第一个阴极区域(7)和第一个栅极区域(8)属于第二个主平面(3);b>在两个主平面(2、3)上,每一个隔离区域(14)位于两个可控硅结构之间,这些隔离区域(14)被设置在第一个主平面(2)的第一个阳极区域(4)和第二个阴极区域(2)之间并且位于第二个主平面(3)的第二个阳极区域(9)和第一个阴极区域(7)之间,以及c>短路区域(16),通过第一和第二个阴极区域(7、12)短路第一个和第二个p型基极(6、11),第一个和第二个阴极区域(7、12)分别具有覆盖阴极区域的金属化层,其特征在于,短路区域(16)的每单位面积的密度向隔离区域(14)的方向增长,并且直接相邻的隔离区(14)有一个最大值。
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  • 2011-04-22 - 2017-08-04 - H01L29/747
  • 本发明涉及一种参考后表面的控制类型的垂直双向开关,包括在其后表面上的第一主电极(A1)、在其前表面上的第二主电极(A2)以及栅极电极(G)。所述开关能够由栅极电极与第一电极之间的正电压控制。在所述开关中,栅极电极(G)被布置在穿过其中形成开关的芯片的过孔的前表面上。
  • 半导体装置-201510003952.3
  • 山崎舜平 - 株式会社半导体能源研究所
  • 2010-11-19 - 2015-05-06 - H01L29/747
  • 一个目标是提供其待机功率充分降低的新的半导体装置。该半导体装置包括第一电源端子、第二电源端子、使用氧化物半导体材料的开关晶体管、以及集成电路。第一电源端子电连接到开关晶体管的源极端子和漏极端子中的一个。开关晶体管的源极端子和漏极端子中的另一个电连接到集成电路的一个端子。集成电路的另一个端子电连接到第二电源端子。
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