[发明专利]竖直存储器装置和制造竖直存储器装置的方法在审

专利信息
申请号: 201811183812.9 申请日: 2018-10-11
公开(公告)号: CN109659306A 公开(公告)日: 2019-04-19
发明(设计)人: 朴安洙;金成勋;郭判硕 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/11521 分类号: H01L27/11521;H01L27/11526;H01L27/11556;H01L27/11568;H01L27/11573;H01L27/11582
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 赵南;张帆
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本公开提供了竖直存储器装置和制造竖直存储器装置的方法,所述装置包括:单元阵列,其包括在第二方向上彼此间隔开的多个单元区,每个单元区包括规则排列的多个竖直沟道;在第二方向上延伸的位线,所述位线在与第二方向交叉的第一方向上彼此间隔开;以及位线接触部分,它们分别将竖直沟道与位线电连接,其中,每个单元区包括被构造为在第二方向上电隔离单元区的子隔离区,子隔离区在第一方向上延伸,在每个单元区中,竖直沟道根据在第二方向上与子隔离区相距的距离分为多类,并且位线接触部分被构造为将每条位线电连接至具有不同类型的至少两个竖直沟道。
搜索关键词: 竖直 存储器装置 单元区 沟道 位线 隔离区 位线接触 电连接 单元阵列 方向交叉 隔离单元 规则排列 延伸 上电 制造 相距
【主权项】:
1.一种竖直存储器装置,包括:单元阵列,其包括在第二方向上彼此间隔开的多个单元区,所述多个单元区中的每个单元区包括规则排列的多个竖直沟道;多条位线,其在所述第二方向上延伸,所述位线在与所述第二方向交叉的第一方向上彼此间隔开;以及多个位线接触部分,其分别将所述多个竖直沟道与所述多条位线电连接,其中,所述多个单元区中的每个单元区包括被构造为在所述第二方向上电隔离该单元区的子隔离区,所述子隔离区在所述第一方向上延伸,其中,在所述单元区中的每一个中,所述多个竖直沟道根据在所述第二方向上与所述子隔离区相距的距离分为多个类型,并且其中,所述多个位线接触部分被构造为将所述多条位线中的每条位线电连接至具有不同类型的至少两个竖直沟道。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811183812.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top