[发明专利]一种化学气相沉积工艺有效
申请号: | 201811066812.0 | 申请日: | 2018-09-13 |
公开(公告)号: | CN108866513B | 公开(公告)日: | 2020-12-18 |
发明(设计)人: | 王昕昀;杨杰;胡广严;吴龙江;林宗贤 | 申请(专利权)人: | 德淮半导体有限公司 |
主分类号: | C23C16/48 | 分类号: | C23C16/48;C03C15/00 |
代理公司: | 北京市一法律师事务所 11654 | 代理人: | 刘荣娟 |
地址: | 223300 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明技术方案公开了一种透明石英玻璃板及其制作方法,化学气相沉积工艺,所述化学气相沉积工艺包括:在化学气相沉积工艺的反应室内放置晶圆,所述反应室上方设有双紫外光源;在所述双紫外光源和晶圆之间设置透明石英玻璃板,所述透明石英玻璃板靠近所述双紫外光源的表面具有若干倾斜面;向所述反应室通入反应气体;采用所述双紫外光源照射所述晶圆,所述双紫外光源射出的紫外光透过所述透明石英玻璃板照射至所述晶圆的表面。本发明技术方案可以减少或消除光的干涉问题,进而改善晶圆表面的成膜均匀性。 | ||
搜索关键词: | 一种 化学 沉积 工艺 | ||
【主权项】:
1.一种透明石英玻璃板,用于设置在双紫外光源和晶圆之间,所述透明石英玻璃板包括靠近所述双紫外光源的第一表面,其特征在于,所述第一表面具有若干倾斜面,所述双紫外光源射出的紫外光透过所述倾斜面照射至所述晶圆的表面。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的