[发明专利]一种化学气相沉积工艺

权利要求书

1.一种化学气相沉积工艺，其特征在于，包括：

在化学气相沉积工艺的反应室内放置晶圆，所述反应室上方设有双紫外光源；

在所述双紫外光源和晶圆之间设置透明石英玻璃板，所述透明石英玻璃板包括靠近所述双紫外光源的第一表面，所述第一表面具有若干倾斜面，所述倾斜面为金字塔状单体或类金字塔状单体的侧面；

向所述反应室通入反应气体；

采用所述双紫外光源照射所述晶圆，所述双紫外光源射出的紫外光透过所述透明石英玻璃板照射至所述晶圆的表面。

2.如权利要求1所述的化学气相沉积工艺，其特征在于，所述金字塔状单体的底面为正四边形，侧面为正三角形。

3.如权利要求1所述的化学气相沉积工艺，其特征在于，所述类金字塔状单体的底面为正多边形，侧面为正三角形。

4.如权利要求1所述的化学气相沉积工艺，其特征在于，所述金字塔状单体或类金字塔状单体紧密排列。

5.如权利要求1所述的化学气相沉积工艺，其特征在于，所述金字塔状单体或类金字塔状单体的高度范围为2μm～10μm，宽度范围为2μm～10μm。

6.如权利要求1所述的化学气相沉积工艺，其特征在于，所述透明石英玻璃板的制作方法包括：采用刻蚀工艺对透明石英玻璃板进行表面处理，形成所述第一表面。

7.如权利要求6所述的化学气相沉积工艺，其特征在于，所述刻蚀工艺为湿法刻蚀工艺，采用的刻蚀液为加入缓冲剂的HF溶液。

8.如权利要求6所述的化学气相沉积工艺，其特征在于，所述刻蚀工艺为电感耦合等离子体刻蚀工艺。