[发明专利]基于超晶格结构的异质结、增强型HEMT器件及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201811040406.7 申请日: 2018-09-06
公开(公告)号: CN110880533B 公开(公告)日: 2023-07-25
发明(设计)人: 徐峰;于国浩;李军帅;邓旭光;张丽;宋亮;范亚明;张宝顺 申请(专利权)人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
主分类号: H01L29/778 分类号: H01L29/778;H01L29/15;H01L21/335
代理公司: 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 代理人: 王锋;赵世发
地址: 215123 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种基于超晶格结构的异质结、增强型HEMT器件及其制作方法。所述基于超晶格结构的异质结包括第一半导体层和第二半导体层,在所述第一半导体层和第二半导体层之间形成有二维电子气,所述第一半导体层为AlxInyGa1‑x‑yN势垒层,其中,x/y=3.1~4.7;所述AlxInyGa1‑x‑yN势垒层包括一个以上AlGaN/InGaN超晶格结构,所述AlGaN/InGaN超晶格结构包括叠层设置的AlGaN层和InGaN层;所述第二半导体层为GaN沟道层。本发明实施例采用的AlGaN/InGaN超晶格各子层厚度均低于其临界弛豫厚度,使得超晶格AlGaN、InGaN子层相对GaN沟道层分别处于张应变、压应变状态,能够作为应力补偿结构形成与GaN沟道层完全匹配的平衡晶格,有效补偿晶格失配应力,显著减小由失配应变引起的位错缺陷密度,进而抑制AlxInyGa1‑x‑yN/GaN异质结中的逆压电效应。
搜索关键词: 基于 晶格 结构 异质结 增强 hemt 器件 及其 制作方法
【主权项】:
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