[发明专利]铁掺杂金刚石稀磁半导体及其制备方法有效
申请号: | 201810786224.8 | 申请日: | 2018-07-17 |
公开(公告)号: | CN108914086B | 公开(公告)日: | 2020-05-22 |
发明(设计)人: | 赵洪阳;马志斌;程振祥;王欢;蔡康 | 申请(专利权)人: | 武汉工程大学 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/511;C23C16/513;C23C16/517;H01L43/10 |
代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人: | 张秋燕 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明涉及一种铁掺杂金刚石稀磁半导体及其制备方法,它以乙酰丙酮铁作为铁源,无水乙醇作为碳源,通过无水乙醇将乙酰丙酮铁引入微波等离子体化学气相沉积装置中,在基底上生长铁掺杂金刚石,实现将铁元素引入稀磁金刚石中。本发明首次以乙酰丙酮铁作为铁源,通过挥发的无水乙醇将其引入,采用微波等离子体化学气相沉积法制备稀磁金刚石半导体,并成功生长出在室温下具有铁磁效应的金刚石。并且发现,随着铁源用量的增加,金刚石的磁性强度呈现一种上升的现象。针对其的研究有利于最大程度地探究铁掺杂金刚石的稀磁半导体特性,同时也有利于探索金刚石磁性掺杂的更多可能性。 | ||
搜索关键词: | 掺杂 金刚石 半导体 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.铁掺杂金刚石稀磁半导体的制备方法,其特征在于它以乙酰丙酮铁作为铁源,无水乙醇作为碳源,通过无水乙醇将乙酰丙酮铁引入微波等离子体化学气相沉积装置中,在基底上生长铁掺杂金刚石薄膜,得到铁掺杂金刚石稀磁半导体。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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