[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示器

摘要

本发明提供了一种阵列基板及其制备方法、显示器。通过这种方法，本发明使得像素电极层、栅极图案层及掺杂型多晶硅层通过一道掩膜工艺即可形成，相比于现有技术中，像素电极层、栅极图案层及掺杂型多晶硅层的三层结构至少需要三道掩膜工艺，减少了掩膜工艺的步骤，从而减少了光罩的使用数量，降低生产成本，节省生产时间。

主权项

1.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：通过第一道掩膜工艺在衬底基板上形成多晶硅层；形成覆盖所述多晶硅层的栅极绝缘层，并通过第二道掩膜工艺形成像素电极层、栅极图案层及掺杂型多晶硅层；形成覆盖所述栅极图案层及所述像素电极层的介电层，并通过第三道掩膜工艺形成连通所述像素电极层的第一过孔及分别连通所述掺杂型多晶硅层两端的第二过孔及第三过孔；通过第四道掩膜工艺形成源极图案层及漏极图案层，所述源极图案层通过所述第二过孔与掺杂型多晶硅层的一端连接，所述漏极图案层分别通过所述第一过孔及所述第三过孔与所述像素电极层及所述掺杂型多晶硅层的另一端连接。