[发明专利]静电放电装置在审

专利信息
申请号: 201810598690.3 申请日: 2018-06-12
公开(公告)号: CN109103178A 公开(公告)日: 2018-12-28
发明(设计)人: G·博塞利;M·Y·阿里 申请(专利权)人: 德克萨斯仪器股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 赵志刚;赵蓉民
地址: 美国德*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 本申请公开了静电放电装置。根据至少一个实施例,ESD装置(100)包括:半导体(102);焊盘(106);接地轨(110);在半导体中形成的p阱(112);在p阱中形成并且电耦合到接地轨的第一p型区(116);在p阱中形成并且电耦合到焊盘的第一n型区(118);在p阱中形成并且电耦合到接地轨的第二n型区(122);在半导体中形成的n阱(114);在n阱中形成的第一n型区(108);在n阱中形成并且电耦合到焊盘的第一p型区(128);以及在n阱中形成并且电耦合到在n阱中形成的第一n型区的第二p型区(124)。
搜索关键词: 电耦合 接地轨 焊盘 半导体 静电放电装置 申请
【主权项】:
1.一种静电放电装置,其包括:半导体;焊盘;接地轨;p阱,其在所述半导体中形成;第一p型区,其在所述p阱中形成并且电耦合到所述接地轨;第一n型区,其在所述p阱中形成并且电耦合到所述焊盘;第二n型区,其在所述p阱中形成并且电耦合到所述接地轨;n阱,其在所述半导体中形成;第一n型区,其在所述n阱中形成;第一p型区,其在所述n阱中形成并且电耦合到所述焊盘;以及第二p型区,其在所述n阱中形成并且电耦合到在所述n阱中形成的所述第一n型区。
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