[发明专利]一种半导体芯片生产工艺有效
申请号: | 201810568871.1 | 申请日: | 2018-06-05 |
公开(公告)号: | CN108807228B | 公开(公告)日: | 2020-10-16 |
发明(设计)人: | 徐亚琴 | 申请(专利权)人: | 安徽省华腾农业科技有限公司经开区分公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;B24B1/00 |
代理公司: | 广州高炬知识产权代理有限公司 44376 | 代理人: | 陈文龙 |
地址: | 234000 安徽省宿州市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明属于半导体制造技术领域,具体的说是一种半导体芯片生产工艺,该工艺包括如下步骤:将晶圆放到研磨机上研磨成镜面;将晶圆放入高温扩散炉内进行氧化处理;将晶圆表面涂抹光刻胶后放入光刻机中进行曝光、显影;将晶圆送入刻蚀机中进行等离子刻蚀;将晶圆送入高温炉中进行掺杂;该工艺中使用的研磨机通过在固定盘的腰形孔设置圆弧形滑块,实现通过连接杆连接在圆弧形滑块上的研磨装置处于浮动状态,进而实现便于研磨盘内的硅晶圆颗粒的掉落;通过设置不同初始角度的凸轮,实现对连接杆下端的研磨装置进行振动;通过传动连杆中部设置配重块,实现研磨盘在一个固定的平面内旋转,进而实现对晶圆表面进行高精度的研磨。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体 芯片 生产工艺 | ||
【主权项】:
1.一种半导体芯片生产工艺,其特征在于:该工艺包括如下步骤:步骤一:将晶圆放到研磨机上研磨成镜面;步骤二:将步骤一中的晶圆放入高温扩散炉内进行氧化处理;步骤三:将步骤二中的晶圆表面涂抹光刻胶后放入光刻机中进行曝光、显影;步骤四:将步骤三中的晶圆送入刻蚀机中进行等离子刻蚀;步骤五:将步骤四中的晶圆送入高温炉中进行掺杂;步骤一中的研磨机,包括支撑架(1)、翻转电机(2)、驱动轴(3)、单向制动器(4)、旋转盘、固定盘(6)、连接杆(7)、研磨装置(8)、研磨片(9)、回收箱(10),所述驱动轴(3)转动安装在支撑架(1)的两支撑板中部,驱动轴(3)一端与翻转电机(2)轴端头固定连接;所述翻转电机(2)固定连接在支撑架(1)的右支撑板板上;所述单向制动器(4)包括制动转盘(41)、制动球(42)、弹簧,所述制动转盘(41)中心设置通孔,制动转盘(41)的圆柱面上设置一组缺口,缺口内设有制动球(42);所述制动球(42)通过弹簧与缺口内壁连接;所述驱动轴(3)穿过制动转盘(41)的通孔;所述制动转盘(41)设置在支撑架(1)的支撑板一侧,制动转盘(41)能够在旋转盘的中心圆柱孔内实现单向转动,制动转盘(41)对称设置;所述旋转盘对称设置,两个旋转盘之间通过两个连接杆(7)固定连接;所述固定盘(6)的中心圆柱孔内设有旋转盘,固定盘(6)一侧端面固定连接在支撑架(1)的支撑板上,固定盘(6)对称设置;所述连接杆(7)中部设有研磨装置(8),所述研磨装置(8)用于配合研磨片(9)对硅晶圆进行研磨,研磨装置(8)上下对称设置;所述研磨片(9)设置在顶部的研磨装置(8)上方;所述回收箱(10)设置在底部的研磨装置(8)下方。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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