[发明专利]发光二极管及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201810358160.1 申请日: 2013-02-08
公开(公告)号: CN108365066B 公开(公告)日: 2020-06-02
发明(设计)人: 林予尧;柯淙凯;曾建元;陈彦志;游俊达;凌硕均;颜政雄;吴欣显 申请(专利权)人: 晶元光电股份有限公司
主分类号: H01L33/12 分类号: H01L33/12;H01L33/22;H01L33/32
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开一种发光二极管及其制作方法。该发光二极管包含第一半导体层、位于第一半导体层上的活性层、位于活性层之上的第二半导体层,以及位于第二半导体层之上的半导体接触层。第二半导体层包含第一次层与形成于第一次层之上的第二次层,其中第二次层的材料包含AlxGa1‑xN(0x1),且第二半导体的表面包含多个不规则分布的六角孔穴。
搜索关键词: 发光二极管 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种发光二极管,其特征在于,包含:第一半导体层;活性层,位于该第一半导体层之上;以及第二半导体层,位于该活性层之上,包含第一次层与位于该第一次层之上的第二次层,其中该第二次层的材料包含AlxGa1‑xN(0
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