[发明专利]钻石成膜用衬底基板、以及使用其的钻石基板的制造方法有效

专利信息
申请号: 201810104358.7 申请日: 2018-02-02
公开(公告)号: CN108400157B 公开(公告)日: 2023-07-28
发明(设计)人: 野口仁;牧野俊晴;小仓政彦;加藤宙光;川岛宏幸;山崎聪;德田规夫 申请(专利权)人: 信越化学工业株式会社;国立研究开发法人产业技术综合研究所;国立大学法人金泽大学
主分类号: H01L29/04 分类号: H01L29/04;H01L21/02
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 李英艳;张永康
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的目的在于提供一种钻石基板的制造方法以及用于所述方法的衬底基板,其对于减低包含位错缺陷等的各种缺陷是有效的。上述衬底基板是用于利用化学气相沉积法来成膜钻石膜的衬底基板,其特征在于:前述衬底基板的表面,相对于规定的晶面方位附有偏离角。
搜索关键词: 钻石 成膜用 衬底 以及 使用 制造 方法
【主权项】:
1.一种钻石成膜用衬底基板,是用于利用化学气相沉积法来成膜钻石膜的衬底基板,所述钻石成膜用衬底基板的特征在于:所述衬底基板的表面,相对于规定的晶面方位附有偏离角。
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