[发明专利]金属膜蚀刻液组合物及利用其的导电图案形成方法有效
申请号: | 201810026960.3 | 申请日: | 2018-01-11 |
公开(公告)号: | CN108660458B | 公开(公告)日: | 2021-06-29 |
发明(设计)人: | 金镇成;金兑勇;梁圭亨 | 申请(专利权)人: | 东友精细化工有限公司 |
主分类号: | C23F1/30 | 分类号: | C23F1/30 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 钟晶;钟海胜 |
地址: | 韩国全*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种金属膜蚀刻液组合物及利用其的导电图案形成方法,更详细而言,涉及如下金属膜蚀刻液组合物,该组合物总重量中,包含:磷酸40~60重量%;硝酸3~8重量%;乙酸5~20重量%;磷酸盐0.1~3重量%;包含二醇系化合物和含有多个磷酸基的化合物中的至少一种的防吸附剂0.1~6重量%;及余量的水,从而有效防止经蚀刻的金属再吸附于基板上,不损伤下部膜,并且对于蚀刻对象膜显示优异的蚀刻特性。 | ||
搜索关键词: | 金属膜 蚀刻 组合 利用 导电 图案 形成 方法 | ||
【主权项】:
1.一种金属膜蚀刻液组合物,组合物总重量中,包含:磷酸40~60重量%;硝酸3~8重量%;乙酸5~20重量%;磷酸盐0.1~3重量%;包含二醇系化合物和含有多个磷酸基的化合物中的至少一种的防吸附剂0.1~6重量%;及余量的水。
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