[发明专利]操作真空处理系统的方法在审
| 申请号： | 201780007973.X | 申请日： | 2017-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN110234792A | 公开（公告）日： | 2019-09-13 |
| 发明（设计）人： | 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧;安德烈亚斯·索尔 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C16/54;H01L21/677;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 描述一种操作真空处理系统(100、200、300)的方法，所述真空处理系统具有主要传输路径(50)，基板可沿着主要传输路径(50)在主要传输方向(Z)上传输。方法包括：(1a)从主要传输路径(50)输送出基板(10)至第一沉积模块(D1)中以在基板(10)上沉积第一材料；(1b)从主要传输路径(50)输送出基板(10)至第二沉积模块(D2)中以在基板(10)上沉积第二材料；和(1c)从主要传输路径(50)输送出基板(10)至一个或多个沉积模块以在基板(10)上沉积一种或多种材料。此外，描述了操作真空处理系统的一个或多个旋转模块的多种方法，所述真空处理系统经构造以在多个基板上沉积两种或更多种材料。 | ||
| 搜索关键词： | 基板 沉积 真空处理系统 传输路径 传输方向 第二材料 第一材料 多个基板 方法描述 旋转模块 传输 | ||
【主权项】：
1.一种操作真空处理系统(100、200、300)的操作方法，所述真空处理系统具有主要传输路径(50)，基板可沿着所述主要传输路径(50)在主要传输方向(Z)上传输，所述方法包括：(1a)从所述主要传输路径(50)输送出基板(10)至第一沉积模块(D1)中以在所述基板(10)上沉积第一材料；(1b)从所述主要传输路径(50)输送出所述基板(10)至第二沉积模块(D2)中以在所述基板(10)上沉积第二材料；和(1c)从所述主要传输路径(50)输送出所述基板(10)至一个或多个沉积模块中以在所述基板(10)上沉积一种或多种材料。
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