[发明专利]模板、氮化物半导体紫外线发光元件和模板的制造方法有效
| 申请号: | 201780005631.4 | 申请日: | 2017-09-29 |
| 公开(公告)号: | CN109314159B | 公开(公告)日: | 2022-03-22 |
| 发明(设计)人: | 平野光;长泽阳祐 | 申请(专利权)人: | 创光科学株式会社 |
| 主分类号: | H01L33/32 | 分类号: | H01L33/32;C30B29/38;H01L21/20 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 任岩 |
| 地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 模板具备蓝宝石基板和AlN层,所述蓝宝石基板以(0001)面或相对于(0001)面仅倾斜规定角度的面作为主面,所述AlN层直接形成于蓝宝石基板的主面,且由相对于该主面具有外延的结晶方位关系的AlN结晶构成。该模板中,AlN层的自主面起为20nm的厚度处的AlN结晶的平均粒径为100nm以下。 | ||
| 搜索关键词: | 模板 氮化物 半导体 紫外线 发光 元件 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种模板,其特征在于,其具备蓝宝石基板和AlN层,所述蓝宝石基板以(0001)面或相对于(0001)面仅倾斜规定角度的面作为主面,所述AlN层直接形成于所述蓝宝石基板的所述主面,且由相对于该主面具有外延的结晶方位关系的AlN结晶构成,所述AlN层的自所述主面起为20nm的厚度处的所述AlN结晶的平均粒径为100nm以下。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于创光科学株式会社,未经创光科学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201780005631.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。





