[发明专利]存储器及其制作方法

摘要

本发明公开一种存储器及其制作方法。该存储器的制作方法包含提供一基底，在基底中形成绝缘结构，定义出多个主动区。多条字符线形成在基底中，将各主动区区分成两个端部以及一个中间部。在基底上形成一图案化掩模层，包含多个岛状图案，各覆盖两相邻端部。以图案化掩模层为蚀刻掩模对基底进行第一蚀刻制作工艺，形成多个岛状结构以及围绕该多个岛状结构的一第一凹陷区域。在基底上形成多条穿越第一凹陷区域并且横跨主动区中间部的位线，其中岛状结构以及第一凹陷区域自该多条位线之间显露出来。

主权项

1.一种存储器的制作方法，其特征在于，包含:提供一基底；在该基底中形成一绝缘结构，定义出多个主动区，各主动区包含两个端部以及位于两该端部之间的一中间部；在该基底上形成一图案化掩模层，包含多个岛状图案，各覆盖相邻该主动区的两相邻该端部；在该些岛状图案的侧壁形成一阻挡层；以该图案化掩模层以及该阻挡层为蚀刻掩模对该基底进行一第一蚀刻制作工艺，形成多个岛状结构以及一第一凹陷区域围绕该些岛状结构；以及移除该图案化掩模层，显露出该绝缘结构以及该主动区。