[发明专利]一种提高监控图形监控精度的方法有效
| 申请号： | 201711099108.0 | 申请日： | 2017-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN107885939B | 公开（公告）日： | 2020-12-04 |
| 发明（设计）人： | 曹云;朱忠华;魏芳 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/392 | 分类号： | G06F30/392;G06F115/06 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出一种提高监控图形监控精度的方法，包括下列步骤：对各芯片以及划片区进行标准冗余图形添加；计算监控芯片版图的平均图形及几何特征或芯片内监控区域的平均几何特征；获取各芯片排布坐标；获取监控图形中心坐标；将监控图形四周向X，Y扩展工艺影响半径，形成优化区域；分别计算出优化区域与周围芯片以及划片区的交叠区域；删除芯片与划片区交叠区域内按标准添加程序添加的冗余图形；以芯片内监控区域的平均几何型特征为目标值对芯片与划片区交叠区重新进行添加冗余图形。本发明是一种监控图形周围几何环境优化方法，可以缩小监控图形周围图形与芯片内部监控区域的几何特征差异，从而可以降低监控图形量测值与芯片内部监控区域的差异。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 监控 图形 精度 方法 | ||
【主权项】：
一种提高监控图形监控精度的方法，其特征在于，包括下列步骤：对各芯片以及划片区进行标准冗余图形添加；计算监控芯片版图的平均图形及几何特征或芯片内监控区域的平均几何特征；获取各芯片排布坐标；获取监控图形中心坐标；将监控图形四周向X，Y扩展工艺影响半径，形成优化区域；分别计算出优化区域与周围芯片以及划片区的交叠区域；删除芯片与划片区交叠区域内按标准添加程序添加的冗余图形；以芯片内监控区域的平均几何型特征为目标值对芯片与划片区交叠区重新进行添加冗余图形。
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