[发明专利]阵列基板的制作方法、阵列基板及液晶面板

摘要

本发明公布了一种阵列基板的制作方法，包括在基板上沉积第一金属层，利用第一光罩图案化所述第一金属层形成相互绝缘的栅极与公共电极；在所述基板上沉积栅极绝缘层，所述栅极绝缘层覆盖所述栅极与所述公共电极；在所述栅极绝缘层上依次沉积半导体层和第二金属层，图案化所述半导体层形成有源层，利用第二光罩图案化所述第二金属层形成源极、漏极及像素电极，所述像素电极在所述基板上的垂直投影与所述公共电极不相交。本发明还公布了一种阵列基板与液晶面板。省略了单独形成公共电极与像素电极的光罩曝光步骤，从而减少了一次光罩曝光步骤，简化了IPS模式液晶面板的阵列基板的制作过程，从而降低了阵列基板及液晶显示器的制作成本。

主权项

一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：在基板上沉积第一金属层，利用第一光罩图案化所述第一金属层形成相互绝缘的栅极与公共电极；在所述基板上沉积栅极绝缘层，所述栅极绝缘层覆盖所述栅极与所述公共电极；在所述栅极绝缘层上依次沉积半导体层和第二金属层，图案化所述半导体层形成有源层，利用第二光罩图案化所述第二金属层形成源极、漏极及像素电极，所述像素电极在所述基板上的垂直投影与所述公共电极不相交。