[发明专利]半导体存储装置有效
申请号: | 201710664482.4 | 申请日: | 2017-08-04 |
公开(公告)号: | CN108630692B | 公开(公告)日: | 2021-12-03 |
发明(设计)人: | 加藤竜也;村越笃;荒井史隆 | 申请(专利权)人: | 东芝存储器株式会社 |
主分类号: | H01L27/11526 | 分类号: | H01L27/11526;H01L27/11524 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 杨林勳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的实施方式提供一种高集成度的半导体存储装置。实施方式的半导体存储装置具备:第1电极膜及第2电极膜,沿着第1方向及第2方向扩展;第1绝缘板,沿着第2方向上相互隔开的两列而配置,在各列中沿着第1方向间断地配置;第2绝缘板,设置于两列间,沿着n列而配置,在各列中沿着第1方向间断地配置;第3绝缘板,设置于两列中的一列与由第2绝缘板组成的列之间,沿着第1方向间断地配置;第1绝缘部件,设置于第1绝缘板与第3绝缘板之间;以及第2绝缘部件,设置于第2绝缘板与第3绝缘板之间。第1电极膜在两列间被分割为两个部分。第2电极膜在两列间被分割为{(n+1)×2}个部分。 | ||
搜索关键词: | 半导体 存储 装置 | ||
【主权项】:
1.一种半导体存储装置,其特征在于,具备:第1电极膜,沿着第1方向及相对于所述第1方向交叉的第2方向扩展;第2电极膜,设置在相对于所述第1电极膜中的除所述第1方向两侧的第1端部及第2端部以外的部分为与包含所述第1方向及所述第2方向的平面交叉的第3方向侧;第1绝缘板,沿着所述第2方向上相互隔开的两列而配置,在各所述列中沿着所述第1方向间断地配置,在所述第3方向上贯通所述第1电极膜及所述第2电极膜;第2绝缘板,设置于所述两列间,沿着所述第2方向上相互隔开的n列(n为1以上的整数)而配置,在各所述列中沿着所述第1方向间断地配置,在所述第3方向上贯通所述第1电极膜及所述第2电极膜;第3绝缘板,设置于所述两列中的一列与由所述第2绝缘板组成的列之间,沿着所述第1方向间断地配置,在所述第3方向上贯通所述第1电极膜及所述第2电极膜;第1绝缘部件,设置于所述第1绝缘板与所述第3绝缘板之间,与所述第1绝缘板及所述第3绝缘板相接,在所述第3方向上贯通所述第1电极膜及所述第2电极膜;第2绝缘部件,设置于所述第2绝缘板与所述第3绝缘板之间,与所述第2绝缘板及所述第3绝缘板相接,在所述第3方向上贯通所述第1电极膜及所述第2电极膜;半导体部件,在所述第3方向上延伸;以及电荷储存部件,设置于所述第1电极膜中的除所述第1端部及所述第2端部以外的部分与所述半导体部件之间;所述第1电极膜在所述两列间,被所述第2绝缘板、所述第3绝缘板、所述第1绝缘部件及所述第2绝缘部件分割为相互绝缘的两个部分,所述第2电极膜在所述两列间,被所述第2绝缘板、所述第3绝缘板、所述第1绝缘部件及所述第2绝缘部件分割为相互绝缘的{(n+1)×2}个部分。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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